[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 uu#+|ZD  
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 Z.:A26  
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建模任务 p_5+L@%Gb  

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图片:1-1911251A00R22.png

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概述 IrK )N  
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h5Bv  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ~Y$1OA8  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 @:8|tJu8b  
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图片:1-1911251A211D3.png

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P#]jPW  
光线追迹仿真 jKs8i$q  
v?t+%|dzA  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 -
.G0k*[d  
•单击go！ 9)`wd&!  
•获得了3D光线追迹结果。 ekXHfA!i%  
9w|q':<  

图片:1-1911251A23G14.png

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W@LR!EW)  
光线追迹仿真 (TsgVq]L  
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O4x`W>  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 e!yt<[ph  
•单击go！ R8]bi|e)  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 [&&4lKC}u  
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图片:1-1911251A311b4.png

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[VHt#JuN,  
场追迹仿真 6{ Eh={:b  
?xega-l  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 a'r\e2/e?H  
•单击go！ 4D5)<3N=d'  
N_U D7P1  

图片:1-1911251A335531.png

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S45jY=)z  
场追迹仿真（相机探测器） m;|I}{r  
sTONkd  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 z'o+3zq^  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 qIl@,8T  
{$JIR}4S  

图片:1-1911251A41O04.png

y[# U/2  
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#su  
场追迹仿真（电磁场探测器） G4~J+5m k  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 /$KW$NH4z  
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uKd)V  

图片:1-1911251A519A0.png

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TqC"lO>:Q  
场追迹仿真（电磁场探测器） E
^G=  
Zv_<*uzKZ  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 f#?R!pR  
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图片:1-1911251A5594c.png

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文件信息 00ho*p!E'  
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ;)*Drk*t,  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination `%VrT`  

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