摘要
|e]2 >NjQa (oUh:w.]Gw 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
Y*KP1=Md O1
KT
kwM1f=!-
W`d\A3v 建模任务
KkCA*GS ^@4$O|3Wh'
v5/2-<6x 概述
]E:P-xTwaI p
bT sn •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
w]&
o]VP •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
B<
6E' ^p2_p9
mZgYR~ (H*EZ 光线追迹仿真
Wb;x
eG gWK N C •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
^]_5oFRIj •单击go!
,5 ylrE •获得了3D光线追迹结果。
SBbPO5^]( H*H=a
s7(I IW&.JNcN 光线追迹仿真
KD*q|?Z A:JWUx •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
mKh<M)Bz •单击go!
*qN(_ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
'y<<ce* {-'S#04
"KhVS `(dRb 场追迹仿真
t%'0uB#v1 M9J^;3Lrh •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Ozo)} •单击go!
f|cF[&wo zB@@Gs>
D,)^l@UP xdV $dDCT 场追迹仿真(相机探测器)
{R{Io| LqOjVQxz •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
OQC.p,SO •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
{zj<nu :
~R:[T2P
.:(N1n'>1 \NN5'DBx 场追迹仿真(电磁场探测器)
]L?DV3N •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
H{4/~Z ?->&)oAh
(8?5REz /[|ODfY 场追迹仿真(电磁场探测器)
0s%rd>3 fmv8)$W#U •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
GA.4'W^&a &9*MO
-1P*4H2a 5uJ{#Zd 文件信息
1X45~ cYafQyU
nRL2Z5iO- kl90w 更多阅读
h+! ktMUTL(B -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer HN j6Iw -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination /cN. -lEo% ~l=Jx* (来源:讯技光电)