摘要
wVqp')e RC}m]!Uz 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
m.p$f$A_ C{,^4Eh3r `m#-J;la %ufh 建模任务
!zvjgDlZv 8\"Gs z {nXygg
J 概述
?"*JV1 9 }toe'6 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
tAE(`ow/Ur •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
K-~g IlbQ` <}:` Y" ~Th,<w*o pU9.#O 光线追迹仿真
;p2b^q' >{QO$F# •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
(BFwE@1" •单击go!
4e/!BGkAS •获得了3D光线追迹结果。
rf-yUH]&S r<vy6 rrr_{d/
SkMFJ?J/ 光线追迹仿真
]+46r!r| x&*f5Y9hCi •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
3rB0H
•单击go!
yq49fEgc@U •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
F@k}p-e~ (ix. 2mnAL# Db<#gH 场追迹仿真
Vi: ^bv P
woiX#vz •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
(De{r| •单击go!
}dop]{RG JLnv O yw$4Hlj5 *
eC[74Kng 场追迹仿真(相机探测器)
bq9w@O s:7/\h •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
uf90 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
?!&%-R6* t+}wTis |bz%SB 3PGAUQR#"q 场追迹仿真(电磁场探测器)
^l|b>z"0ao •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
>iae2W` i? ~-% ,#UZp\zZ* 4[@YF@_=M 场追迹仿真(电磁场探测器)
\$ipnQv S@qR~_>a •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
fE+zA)KX O`c50yY ]vlBYAW' Cl`i|cF\ 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer WN+i 3hC -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination D<;~eZ' nFNRiDx (来源:讯技光电)