摘要
.p*D[o2 9 W%Nu]9T 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
w\;9&;; Tq_X8X#p bFxJ| zc~xWy+ 建模任务
fB"gM2' 6f9<&dCK iwx0V 概述
Dj&bHC5% csA.3|rv •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
dX}dO)%m{ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
b2kbuk] v?=VZ~`O( N}<U[nh' `V2j[Fz 光线追迹仿真
~g6[ [ t>u9NZt G •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Z8n%=(He •单击go!
{ RX| •获得了3D光线追迹结果。
hg/&[/eodm 9NXiCP9A (mr`?LI} l'8TA~ 光线追迹仿真
m)2hl~o_ s-S"\zX\D •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
MQMy Z: •单击go!
$5(%M8qmQ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
<Y'YpH`l BCB/cBE #/=yz<B s(LqhF[N2] 场追迹仿真
fB}5,22 d"a7{~l •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
zszx@`/3 •单击go!
U>jk`?zW <?}g[]i 'MlC
1HEp A0sW 9P6F 场追迹仿真(相机探测器)
,IB)Kk2 `g1~ya(MC •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
u;1NhD<n •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
v@SrEmg Zul32]1r 3`q`W9 `W S
场追迹仿真(电磁场探测器)
Ot<!Y M •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
$X]v;B)J| ts$UC $ EmoU7iy d0,F'?.0| 场追迹仿真(电磁场探测器)
haK5Oe/cE bG?[":k •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ((q(Q9(F -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination bm?TMhC AV!
cCQ (来源:讯技光电)