[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 EVSX.'&f  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 dn3y\  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 n\53wh@+  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 eMsd37J  
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图片:1-1Q21014202H61.png

RrB&\9=  
光线追迹仿真 IJ"q~r$  
NLqzi%s  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 abjQ)=u  
EQM{  
•点击Go！ cwg"c4V  
•获得3D光线追迹结果。 6_Y,eL]"  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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:I#V.  
光线追迹仿真 Xv^
qVn4  
%h@EP[\  
:o3N;*o>)0  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 8ib:FF(= u  
•单击Go！ K0>zxqY  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 .k !{*  
V,njO{Q  

图片:1-1Q210142613B5.png

&u !,Hp  
[W&T(%(W-  
场追迹仿真 O0.*Pmt  
KWHY4  
ZECfR>`x  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Z T%5T}i  
•单击Go！ M= (u]%\  
`c$V$/IT  

图片:1-1Q210142A2533.png

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o]V^};B  
场追迹结果（摄像机探测器） W=?<<dVYD  
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B+`g>h
 
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ob]w;"  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 R|(
a@sL  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 \FaP|28h  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

e
0 ecD3  
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场追迹结果（电磁场探测器） (
bS&D/N.  
0y\Z9+G:  
:3 mh@[V  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 !ohN!P7&  

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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 KI.hy2?e  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 h";L  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer u3D)M%e  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination sLk-x\P]|  
EU#^7  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么