摘要
? Ga2K :Mu8W_ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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K1/gJ9+(\ K*U=;*p ) 建模任务
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vgA!?P3 概观
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AK
s39U' 光线追迹仿真
M`+e'vdw YUVc9PV)Ws •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
7hF,gl5 H")N_BB •点击Go！
9p\Hx#^ •获得3D光线追迹结果。
yEpN,A Pm#x?1rAj 
(\mulj Ih-3t *L 光线追迹仿真
2^^'t 6@ Ld}(*-1i NM1cyZ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
x<*IF,o •单击Go！
'/u:,ar •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
N[bR &# p b1+hr(kMRM 
@W1WReK]f A
eGG 场追迹仿真
!M]%8NTt2 (Q@+v<
.kbr?N,' •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
x7KcO0F{ •单击Go！
Z(LxB$^l[ %uz|NRB= 
bQXc IIa{ ~~xyFT+{F 场追迹结果（摄像机探测器）
}c35FM, FYXw$7'l z{`6# •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
A{4G@k+#d •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
j(Fa=pi Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
(zS2 Ndp 4/HY[FT 
9 wSl,B- = GH@.3`X 场追迹结果（电磁场探测器）
Ox7uG{t$# -}_cO|kk o <D3Y95b •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Mt[Bq6}ZD 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer qE# &) -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination wGOMUWAt aQ !9#d_D （来源：讯技光电）
