[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 4=y&}3om(0  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 2Rwd\e.z  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 F+BCzsm7$  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 ~W4SFp  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 u+6D|  
%Q}(.h%M  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 5f0g7w =-  
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•点击Go！ U6H3T0#
 
•获得3D光线追迹结果。 q&6|uV])H  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 WL,2<[)Ew  
(I
jM  
5{DwD{Q  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 +mR^I$9  
•单击Go！ k5Q1.;fW76  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 fY78  
GCw4sb4~w  

图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 l(F\5Ys  
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2Ir*}s2{  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 qq[Dr|%7  
•单击Go！ /$\8?<Pc".  
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图片:1-1Q210142A2533.png

o.zP1n|G~r  

L>7@!/9L  
场追迹结果（摄像机探测器） Hdd3n6*  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 3q@JhB  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 >/}p{Tj  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 yQ<h>J>  
rL+.3ZO):P  

图片:1-1Q210142Q6438.png

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(w(k*b/  
场追迹结果（电磁场探测器） 8~RJnwF^  
T9kc(i'  
ln,9v  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 {5%d#|?  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 jr#*;go  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 &^ s8V]^  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer R(P(G;#j  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination w?N>3`Jnf  
nr}Ols  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么