摘要
[iS$JG-
[2c{k 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
C NrII sJ sM2MLh 'D 
_}6q{}jn:c dp5cDF} l 建模任务
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iThSt72 
}"s;\?a 概观
DBH#)4do@ r ,(Mu 
{]N3 f[w 光线追迹仿真
8Cx^0 ^A_;#vK •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
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qvsQ& V-yUJ#f8[ •点击Go！
t+ Bf# : •获得3D光线追迹结果。
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v3[@1FQ" ~mz%E 光线追迹仿真
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/7^) ( •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
H*I4xT@ •单击Go！
2[yBD-": •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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w}c Y6O,1 va)%et0! 场追迹仿真
N@T.T=r N_C;&hJN$w (g!p>m!Z •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
pbXi9|bI •单击Go！
( )T[$.( clO,}Ph> 
%3Z/+uT@v] c,\i"=!$ 场追迹结果（摄像机探测器）
& "Ux6mF-" bCv {1]RC2 ?)4?V\ $ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
~%k ?L4% •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
LJlZ^kh Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
eDKxn8+(H o2H1N~e#c 
>h ~IfZU1 &dB-r&4;+ 场追迹结果（电磁场探测器）
%|W.^q 256LH Y|6 "\%On > •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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v-j3bB 文件信息
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C@\{ehG &?,U_)x/ 更多阅览
p/6zEZ* -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer \*vHB`.,ey -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination N3BL3: @O U\@A _
B （来源：讯技光电）
