摘要
nI dvff R5| c4v{B 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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!m: SRNPg }Vk#w%EJ 建模任务
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]iY j S 概观
D/B b)]9I :+Y+5:U] 
2Fp.m}42i( 光线追迹仿真
mD=x3d p
0R)Yc+; •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
f)/Yru. ; uq {w1O5 •点击Go！
jDOB (fE •获得3D光线追迹结果。
wwk =*X-8 [gx6e 44 
?/5WM% 9qIjs$g 光线追迹仿真
&n91f e M{,B ~X)Aw 3 }F •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
'z> |N{-xG •单击Go！
e@w-4G(; •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
!S$LRm\ ' Jvgx+{Xu 
aF]4%E .\" .}4qQ 场追迹仿真
*FmY4w 2tMe# V p gW BW9\ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
M4~^tML>Ey •单击Go！
V* Ta[)E bXmX@A$#Io 
fX^ <H_1$G >;:235'(M 场追迹结果（摄像机探测器）
4$~eG"wu x2%xrlv<J/ a9}7K/Y=d •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
CD]"Q1
t} •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
)O;6S$z9Y Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
8Q d *OO R6v~Sy&n! 
8eGq.+5G 'I^3r~_ 场追迹结果（电磁场探测器）
t<h[Lb%{T4 wa T'|9{ 3k3-Ts •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer %dn!$ [D@ -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination r 9sq3z|% wo>7^ZA （来源：讯技光电）
