摘要
jd.{J{o BQ:hUF3 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
]qd$rX ?S<`*O
+
|NdWx1 ~dBx< 建模任务
eF"k"Ckt' | LXVf
g:fkM{"{ 概观
un F=";9H C+L_f_6]
Ro@=oyLE 光线追迹仿真
EJW}&e/ <dGph •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
G"F)t(iX 6}cN7wnm
j •点击Go!
uXo uN$& •获得3D光线追迹结果。
|}o6N5) im3BQIPR
s'^sT=b 7_Op(C4,nC 光线追迹仿真
%a:>3!
+ X \BxRgl}, *e25!#o1 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
8|{d1dy •单击Go!
vlq L •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
g)1`A24 *.6m,QqJ(
`F$lO2 #k R $@$ 场追迹仿真
6)veuA3] FL{$9o\@ @R_ON"h •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
g/4ipcG;N •单击Go!
C jGQ af'gk&%
!C@+CZXLx Bm5\*Xd1( 场追迹结果(摄像机探测器)
xpp>5d
! jN AS'JV ||))gI`3a •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
aHdQi,=z •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
lhPxMMS`j Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
h])oo:u'/Q N /zP!%L
xErAs}| FeNNzV= 场追迹结果(电磁场探测器)
Nt|Fw$3*5{ RF= $SMTk _fccZf(yC. •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
h=4 GSU CK#i 6!~r
Q*hXFayx 文件信息
_SnD)k+TgJ }]Nt:_UCX
J|w%n5Y 1ozb
tn 更多阅览
1H?I?IT30 -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer HQNpf1=D -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination '6cXCO-_P N@Q_5t0bk (来源:讯技光电)