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    [求助]镀完膜后发雾 [复制链接]

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    离线liuwenbo1991
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2018-10-17
    基材:SI片  膜料:GE+ZNS  镀膜波段近紫外到14um,电子枪蒸发镀膜,Mark II+离子源。镀完膜后SI片发雾,通过调节镀膜工艺(包括镀膜温度,材料沉积速率,离子源参数等等后依然发雾,哪位大咖有遇到过这种问题,帮忙解惑,谢谢
     
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    离线rexchou
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    只看该作者 1楼 发表于: 2018-10-19
    之前遇過發霧情況,是離子源被汙染到. F&Z>B};  
    請參考~
    离线ouyuu
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    只看该作者 2楼 发表于: 2018-10-20
    我觉得可能是MARKii离子源能量不够造成的。 UcIR0BYa  
    MARK II离子源的特性是电流很大,电压不高。 u(qpdG||7  
    离子束的密度(电流)够了,但是离子速度(电压)不够的话,  n6dg   
    结晶大小还是没法改变。 5PySCGv  
    KJ |1zCM  
    楼主的设备加热能到350度以上吗?
    离线yangpaopao
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    只看该作者 3楼 发表于: 2018-10-23
    SI片不知道,熔石英镜片出过同样的问题,硅片加工完到你镀膜前肯定被污染过,或者酒精等擦过
    离线dede
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    只看该作者 4楼 发表于: 2019-10-14
    顶一下
    离线jakzhou
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    只看该作者 5楼 发表于: 2019-11-17
    镀膜温度过高,氧化钛高温下结晶发雾!
    离线王少伟
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    只看该作者 6楼 发表于: 2020-03-05
    真空度不够