介绍
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模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导（160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度，250 nm高度），它埋在二氧化硅波导中（注意：使用的尺寸减小了（1.5 umx1.5 umx105 um），以便达到更快的模拟时间）
%dw@;IZ#8{ 为了精确模拟线性锥形硅波导，锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些，因此在这种情况下使用不均匀的网格。
<XDYnWz 光源在时域中设置为CW（λ= 1.55 um），在空间域上设置为高斯横向分布，并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
+a0 q?$\ 注意：模拟时间应足够长，以确保稳态结果
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2= S;<J t Y'fFz^Ho [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014)
" Y-_83 [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003);
&>,c..Ke xJlf}LEyF 3D FDTD仿真
Rf9;jwU dn!#c= 要模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导（160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度，250 nm高度），它埋在二氧化硅波导中（注意：使用的尺寸减小了（1.5 umx1.5 umx105 um），以便达到更快的模拟时间）
INt]OP D 为了精确模拟线性锥形硅波导，锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些，因此在这种情况下使用不均匀的网格。
W"Mwp V 光源在时域中设置为CW（λ= 1.55 um），在空间域上设置为高斯横向分布，并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
u?,M`w0' 注意：模拟时间应足够长，以确保稳态结果
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H!PM b{e Vz[tgb]- 仿真结果
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ny'?Hl'Q AYb-BaIc 顶视图展示了锥形硅波导的有效
耦合。
l=4lhFG,Mk +J [<zxh\ 底部视图显示了不同位置的模式转换（左：25 um，中间：65 um，右：103 um）
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]l/ PyX :k&R]bc9 （来源：讯技
光电）
