【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7560
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   ERk kS Tp  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 7TP$  
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主办:Zemax China     B<A:_'g  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     SO7(K5H,  
地点:上海 &u&2D$K,tp  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   8a7YHUL<3i  
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课程安排: X z8$Xz,O  
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成像设计  1U  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 ,Ak ^nX  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; I`lDWL  
材料库、镜头库介绍; SF0Jb"kS  
如何定义新材料; 4>l0V<  
如何使用镜头库;
MTF; fH&zR#T7U4  
双高斯镜头设计及优化; D4d]3|/T  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; |n)<4%i8J  
寻找最佳非球面; #sL/y  
曲率套样板; 0(\p<qq  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; {d8^@UL  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; 5qGGu.$Ihi  
坐标断点面的使用技巧; ^Wf S\M`  
序列模式棱镜建模; 8`a,D5U:  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; *}7U`Aa  
加工误差、装配误差; *jGPGnSo  
灵敏度分析; CK=ARh#|  
反灵敏度分析; f;R>Pr;rD  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; (s&ORoVGn  
局部优化; D$ej+s7  
全局优化; {Wh BoD  
锤形优化; 2,+d|1(4o  
优化函数架构技巧; R!9qQn?  
透镜优化实例; }N@n{bu+  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; UB a-  
投影系统设计; $-Cy  
集光系统设计;
公差评价标准; kw3 +>{\  
公差操作数; rj}(muM,R  
补偿变量的使用; FbmsN)mv!%  
单透镜公差分析; m!;G/s*  
库克镜头公差分析; _$!`VA%  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   CNq[4T'~A  
实例设计及分析; KA?v.s  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; !h?=Wv ==]  
小结及答疑;
公差脚本的使用; 'bl%Y).9w  
镜头出图、CAD出图; QOd!]*W`?m  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 PaNeu1cO  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 W|0My0y  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; |ebvx?\  
光源与探测器;
案例:背光模组; +eC3?B8rN  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; \,hrk~4U;(  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; EPv%LX_j  
光偏振与膜层;
表面散射; '\ XsTs#L  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; }Iip+URG  
光谱模型;  UPR/XQ  
真彩色数据探测;
物体表面属性; K0LbZMn,/  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; i]dz}=j'  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   'P,,<nkr|  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; 4? v,wq  
非序列系统错误排查;
体散射; fwy"w  
荧光模型
v:?o3 S  
&lUNy L  
特色:     0_Lm#fE U  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     >r=6A   
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     [#>{4qY2  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     >GmN~"iJ  
G@B*E%$9  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     M.S s: ttj  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     ETe-  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     oCbpK  
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报名方式:     %OEq,Tb  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     !D7"=G}HD  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   TqAtcAurM  
fy`+Efuj  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   LfHzT<)|  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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