【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7477
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   :Kx6|83  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! (#5TM1/A  
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主办:Zemax China     }4wIfI83K,  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     *?s"~ XVs  
地点:上海 2/.I6IbL  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   #S*cFnd  
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课程安排: :?J0e4.]  
>w)A~ F<  
成像设计 iK=SK3)vR  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 Q|i`s=|  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; U[WR?J4~LX  
材料库、镜头库介绍; ,n\'dMNii  
如何定义新材料; >gGdzL  
如何使用镜头库;
MTF; +Qo]'xKr  
双高斯镜头设计及优化; wxIWh>pZa  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; ^rIe"Kx  
寻找最佳非球面; o}VW%G"  
曲率套样板; 3,$G?auW  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; X9/]< Y<!  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; VVVw\|JB>  
坐标断点面的使用技巧; ,G%?}TfC)  
序列模式棱镜建模; +?R !  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; NkL>ru!b9  
加工误差、装配误差; rIo)'L$uU  
灵敏度分析; ZZ@1l  
反灵敏度分析; ]] Jg%}o  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; j/*4Wj[  
局部优化; #Ss lH  
全局优化; +VdC g_  
锤形优化; t?6_^ 08  
优化函数架构技巧; SRBQ"X[M2  
透镜优化实例; ("5Eed  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; G'0]m-)dw  
投影系统设计; -eSZpzp  
集光系统设计;
公差评价标准; mjXO}q7  
公差操作数; ~ $QNp#dq  
补偿变量的使用; 0Er;l|  
单透镜公差分析; SJ;Kjq.Qo  
库克镜头公差分析; =BNS3W6  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;    %3A~&  
实例设计及分析; :rhh=nHgn  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; 1 wB2:o<  
小结及答疑;
公差脚本的使用; c>pbRUMH  
镜头出图、CAD出图; ;"j>k>tg  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 YKWts y  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 t,>j{SK~  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; ]5`Y^hS_g  
光源与探测器;
案例:背光模组; >p,FAz>  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; D8,V'n>L  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; Y*q_>kps"  
光偏振与膜层;
表面散射; /C"?Y'  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; QH.zsqf(  
光谱模型; +(qs{07A$  
真彩色数据探测;
物体表面属性; ,8/Con|o  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; u~VvGLFf5,  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   Weu%&u-  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; ,[t>N>10TH  
非序列系统错误排查;
体散射; B9(e"cMm  
荧光模型
Rd^X.  
F3 z:|sTqc  
特色:     gHe%N? '  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     yRGv{G[59  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     DS]C`aM9  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;      Z?_ t3  
F4`5z)<*  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     Sx|)GTJJ|-  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     x;L.j7lzA;  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     +rcDA|  
SB}0u=5  
报名方式:     X!/o7<  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     0^ IHBN?9  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   x8q3 Njr  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   =n7 3bm  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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