摘要 GiV%Hcx sjr,)|#[ 在
半导体产业中,晶片检测
系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微
结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的
物镜,工作在紫外
波长范围。作为一个例子,
模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。
3/kT'r Ey&H?OFiP 9=%zd z2_S 建模任务 ,#A(I#wL~ Y%s:oHt z-5`6aE9< 结果 (^d7K:-' Tlsh[@Q 3!"N;Q" 结果 m+kP"]v
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