摘要 T! uM+6|Y .4S.>~^7 在
半导体产业中，晶片检测
系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微
结构的图像解析度，检测系统常使用一个高NA的
物镜，工作在紫外
波长范围。作为一个例子，
模拟了一个完整的晶片检测系统，包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用，并演示了图像的形成。
1&\0:vA^Y .Q<>-3\K 9U7nKJ+iby 建模任务 2v :]tj G3C~x.(f GL&y@6 结果 Z~GL5]S 3N 8t`N +u.1 ;qF 结果 fAF1"4f 
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Best wishes, XFg 9P}" 行销部 17621763047（微信同号） Ltv]pH}YN --------------------------------------------------------------------- Y=%tn8< 讯技光电科技（上海）有限公司/上海讯稷光电科技有限公司/讯稷光拓科技（香港）有限公司 ih)zG 上海市普陀区武威路88弄（中鑫企业广场）21号楼A座2楼邮编：200333 w}L]X1#sF Tel: +86-21-6486 0708/ 6486 0576/6486 0572 转 809 分机 手机号：17621763047 Fax: +86-21-6486 0709 >u >5{4 Email: david@infotek.com.cn Web:www.infotek.com.cn www.infocrops.com ;
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