摘要 ;@Hi*d[ ~$ qJw?r
VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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-Tkd@ irw 7 介质目录中的斜光栅介质 NlEWm8u "PScM9) \
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l5OV!<7~X 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
_,0!ZP- 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
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Z#t)Z " 斜光栅介质的编辑对话框 Aag)c~D /\$|D&e
IS4K$Ac. v4##(~Tu 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
wJR i;fvi 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
N3c)ce7[ 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
NEou2y+} 斜光栅介质的编辑对话框 sr@XumT
]9< 9F ?
fX$4TPy(h C(*@-Npf[ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
-LK(C`gB 以下参数可用:
o4'4H y - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
S,9WMti4x - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
h:;eh - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
wR+`("2{r - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
V//q$/&8( )hJjVitG 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
DSZhl-uGM 2|>wY% 斜光栅介质的编辑对话框 G/3lX^Z> ~I|R}hS
uWtS83i V+~{a:8[pq 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
e.ym7L]$O 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
bK;aV& I"<.
h' 斜光栅介质的编辑对话框 U105u.#7 [Q_|6Di
EjE`S_i= .LcE^y[V :p)9Heu
首先,必须选择涂层材料。
H08YMP>dc 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
:BxYaAVt^ 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
J7^T!7V. rWpfAE)! 斜光栅的编辑对话框 w/W?/1P>q
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!Ocg @wJa33QT afq
+;Sh 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
uN0fWj] 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
}4]x"DfIg [y;ZbfMP|o 堆栈使用的评论 PH!B /D5G
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yzb& ,5uDEXpt{ FGhrf 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
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EJn/ 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
UzHhU*nW 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
v+o3r]Y6 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
TEZqAR]G Jiylrf`o 斜光栅介质的采样配置 Z*"t]L k\Tm?^L) 斜光栅介质采样
`z`;eR2oX <!XnUCtV &?sjeC_ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
1+c(G?Ava 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
g7f%(W2dd 在右边,显示了介质的预览。
Y,}43a0A 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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