摘要 Tb{RQ?Nw' T
`o[whr VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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m1M6N`f >".@; 介质目录中的斜光栅介质 =tl~@~pqI Ei89Ngp\}
KIY9?B=+ qpq(< 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
/`j2%8^N 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
\+k~p:d_8 ^,`
L!3 斜光栅介质的编辑对话框 \ZBz]rh* fP
llN8n
3=%G{L16- R0-Y2v 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
ulfs Z: 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
@)@tIhw 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
4|DN^F~iut 斜光栅介质的编辑对话框 7t+H94KG7
R#s_pW{op
k;r[m,$ @@=,bO 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
(
geV(zT 以下参数可用:
'h[7AZ&)# - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
ypx`!2Q$ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
CiTWjE?|7 - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
(N5"'`NZA - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
i*mI-l L+0:'p= 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
&%T*sR Uh'W d_? 斜光栅介质的编辑对话框 /f hS#+V* CjJ n
S(0JBGC ^}lL@Bd| 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
z2q!_ ~ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
u@Bgyt7Y [~?6jnp 斜光栅介质的编辑对话框 4I2#L+W L5CnPnF
^Zlbs
goZ AOx8OiqE: !. :b}t 首先,必须选择涂层材料。
Bo
??1y 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
ACF_;4%& 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
pE$*[IvQ' %h
v-3L#V 斜光栅的编辑对话框 EW/N H&{
ML%JTx0+Z
0\+$j5; A@reIt l>)+HoD 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
7r pTk&` 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
Z1wfy\9c8 OOYdrv, 堆栈使用的评论 6L2Wv5C
1"T&B0G3l
f|2QI~R UN:cRH{?* ~xc0Ky?8 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
ZT+{8, 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
WrR8TYq9D] 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
>Fc=F#tA9 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
9xL`i-7] ~u r}6T 斜光栅介质的采样配置 <XzRRCYQ
.L^F4 斜光栅介质采样
" pL5j /}s# 5'EoB^`8N~ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
CC]q\%y-_ 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
V_KHVul 在右边,显示了介质的预览。
l!IN #|{( 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
P+,YWp nDNK}O~'
kZ!&3G9>- A \Z _br 采样斜光栅#1 fg
GTm: > Qh#pn*
UO-,A j*wW iF1zLI<A 采样斜光栅#2 ##U/Wa3 A$TFa:O|
mQ\oR| b+$-f:mj 采样斜光栅#3 T=fVD8 DMT2~mh
%3q7i`AZ Bc}e ??F 采样斜光栅#4
kb'l@d#E = Ruq
:kucDQE({? V}Pv}j:; 文档信息 5(y Q-/6C+ &9xcP.3