摘要 `uDOIl 4F -<j! VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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dBM{]@bZ <Pf4[q&wM 介质目录中的斜光栅介质 #
dUi[' r|z B?9Q
0e:j=kd)NH ?hrz@k| 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
K4RQ{fWpm 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
19[.&-u" Ag{)?5/d_ 斜光栅介质的编辑对话框 H:Q4!< re4z>O*
:"nh76xg< 44k8IYC*o 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
lN"@5(5% 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
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w^|V 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
vXM{) 斜光栅介质的编辑对话框 3 l
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1(i%nX<U
; Ob^@OM 1<Uv4S 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
W8-vF++R 以下参数可用:
dtG>iJ - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
6Xn9$C) - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
9B>P Qbs - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
!4z vkJO - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
(6
RWI# zlkW-rRkR 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
%Yg|QBm| 0\k{v 斜光栅介质的编辑对话框 +T,0,^* DdeKZ)8
^FTS'/Q 05jjLM'e 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
`4Fw,:+e 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
kf95 )iLo #7YJ87<E 斜光栅介质的编辑对话框
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oykb8~u}} U{@2kg- UQP>yuSx 首先,必须选择涂层材料。
D mky!Cp 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
rodqa 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
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]D{[hV 斜光栅的编辑对话框 q(2ZJn13f
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M[u6+` 0xeY0!ux "kVzN22 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
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[( 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
6y^GMlsI {([`[7B>a< 堆栈使用的评论 lPtML<a
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Czy}~;_Ay -I;\9r+ ;Z`R! 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
b0x%#trA{ 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
/?S^#q>m% 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
N9rAosO* 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
Nz;\PS fILvEf4b 斜光栅介质的采样配置 5IF$M2j 8L6b:$Y3@C 斜光栅介质采样
&zP>pQr`# )dJx82"
l $ 1m}lXk 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
W u$yB! 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
EP+LK?{% 在右边,显示了介质的预览。
% w 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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