摘要 -Q
U^c2 th&[Nt7 VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
:=[XW?L%x l!g]a2x* 1rDqa(7 g'|MA~4yB 介质目录中的斜光栅介质 *7wAkljP >G~R,{6U @!8ZPiW< YR;^hs? 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
'GL*u#h 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
.fdL&z Rh>}rGvCUN 斜光栅介质的编辑对话框 P'O#I}Dmw< }ga@/>Sl& 8 P>#l. # T0]*{k(FR 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
s$a09x 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
U_{Ux2 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
MG{YrX) oi 斜光栅介质的编辑对话框 "^1L'4'S
pm9%%M$
G2^et$<{uU tyDM'|p 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
-k7X:!>QHC 以下参数可用:
Rv/Bh<t - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
+(+Itmx2& - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
<fs2fTUeqF - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
H/"lAXfb - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
"5, _IdRF5<4 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
~wVd$%7` ~jb"5CX 斜光栅介质的编辑对话框 1Zi,b \~5C7^_ jH6&q~# +EAT:, 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
t&(PN%icD 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
Tr#V*.x Q8_ d)t| 斜光栅介质的编辑对话框 ScSZGs 5& .YZgOJi 0pSmj2/,. =ID
2 A?@@*$& 首先,必须选择涂层材料。
<2nZ&M4/s{ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
np4+" 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
# (- Qx =Z+nX0qF 斜光栅的编辑对话框 .n=Z:*JqQ
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g9Yz*Nee< {Ions~cO) }>[G5[\
由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
hbcuK& 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
E!O\87[ yu;SH[{Wi 堆栈使用的评论 G\a8B#hg
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h?$T!D> XB[<;*Iz E.iSWAJ(w 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
mP(kcMT" 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
8L1oh j 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
NzW`B^p 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
Ve/xnn]' .uE Pnzi 斜光栅介质的采样配置 aBzszp]l+ P(a.iu5 斜光栅介质采样
*;XWLd# n\ Hs@. qSejLh6 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
@;?T~^nGj 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
8#&q$kE 在右边,显示了介质的预览。
3.)b4T 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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+ZD7jK b,IocD6v;P 采样斜光栅#1 ~j'l.gQb h},oF!, 8/"fWm/ u(!&:A9JFd 采样斜光栅#2 A$WZF/x emW:C-/h/@ +B|7p9qy
x3zj?- 采样斜光栅#3 |D.O6?v@ cUO<. %5*@l vy Krs2Gre} 采样斜光栅#4 DSxUdEK6 "3F;cCDv] pN&c(=If a1j.fA 文档信息 vEG'HOP 7zTqNnPnf