摘要 "0!eb3n JQ{zWJlt VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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c}I8!*\ dWq/)%@t 介质目录中的斜光栅介质 wr;|\<c )T$fk
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KI G,mH!lSm, 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
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可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
I vl^,{4 }:c,SO! 斜光栅介质的编辑对话框 ~XT
a= uX5--o=C
V~uA(3\U L_zmU_zD 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
/NN[gz 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
)zc8bS 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
S1^Mw;?P 斜光栅介质的编辑对话框 O^="T^J
*a0I Z
]JCB^)tM Tdmo'"m8z_ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
(!&O4C5 以下参数可用:
'N5r2JL[w - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
7J!d3j2TR - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
*~oDP@[S - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
'JKvy(n> - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
Jm1AJ4mw {arjW3~M: 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
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Tg +?m=f}>W1 斜光栅介质的编辑对话框 3SB7)8Id1 n,'AFb4AF
)mZy>45 f'yd{ihFp 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
eMd1%/[ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
]8cX#N,M 8lb
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斜光栅介质的编辑对话框 fq!6#Usf;i W)P_t"'@L
l:C0:m% S gsR;)2 9-<V%eNX 首先,必须选择涂层材料。
DG9;6"HBX 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
tZ2iSc 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
[eik<1=,~? IIEU{},}z 斜光栅的编辑对话框 %+JTQy
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o;P;=< s-DL=MD PvCE}bY{} 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
Gjh7cm> 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
~PvzUT-^ KD*4n'm!> 堆栈使用的评论 *==nOO9G
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6 Izv& 3c6) R;ug+N 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
2DQC)Pe+z 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
a'~y'6 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
Jxp'.oo[ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
A|-\C$ $KFWV2P 斜光栅介质的采样配置 |B.d7@{mM Q{-r4n|b 斜光栅介质采样
$ wB *(IO<KAg8 oOz6Er[KO 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
e.H"!X!0#H 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
(#Aq*2Z. 在右边,显示了介质的预览。
U.x.gZRo[ 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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(*gpa:Sc m%3Kq%?O 采样斜光栅#1 Yl=
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5+Ut]AL5 S22 ;g 采样斜光栅#2 :b-(@a7> jm"xf7
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z{x -Vfd v0sX'>f 文档信息 yhmW-#+^e V
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