摘要 H uPw?8w= "lcNjyU\O VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
B\U9F5 E880X<V)>
+>#SB"' GJ:65)KU 介质目录中的斜光栅介质 wN"j:G( M]O
_L
jN\} l|;q :}\w2W E[ 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
L*xu<(>K 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
gOpi> "<3F[[;~ 斜光栅介质的编辑对话框 zo,`Vibx< 3;@/`Z_\lt
G_GV @6eM{3E. 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
|,*N>e 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
yrp5\k*{y 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
AJ_''%$I3: 斜光栅介质的编辑对话框 ke'aSD
-nVQB146^
zn| S3c s}8(__| 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
J1@X6U!{ 以下参数可用:
m0}Pq{g - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
^I =W< - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
BI\ )vr$ - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
~*OQRl6F - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
^}JGWGib=+ +Bg$]~T 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
v6Vie o= oy8L{8? 斜光栅介质的编辑对话框 ,/?7sHK-0 SG:Fn8
HeV6= K`7(*!HEb 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
7jss3^.wA 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
en6Kdqe eI?|Ps{S 斜光栅介质的编辑对话框 {+`'ZU6C ;DQ{6(
#&fi[|%X$ -~ w5yd =<,>dBs}\ 首先,必须选择涂层材料。
nitKX.t8 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
5c(mgEvq 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
O*;$))<wX xF:}a:c@H 斜光栅的编辑对话框 e70#"~gt[
~ IPel
C[E[|s*l o!nw/7| #b u]@/ 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
v[k;R 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
$<;!F=%8 x;Qs_"t];3 堆栈使用的评论 pD^7ZE6
BHmmvbM#Qm
.b.pyVk
fP+RuZ bl8zcpdL 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
29a~B<e7s 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
UweXz.x7 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
\fX0&l;T9\ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
A_h|f5
;kW+ 斜光栅介质的采样配置 rM?O 2n `S`,H 斜光栅介质采样
ElFiR; V/p+Xv(Zt .|$:%"O&X 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
o|Q:am'H 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
&c?q#-^)\+ 在右边,显示了介质的预览。
j{8;5 ?x 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
w^{qut. pr;n~E 'kq
D8OW|wVE Z-md$=+}w 采样斜光栅#1 UF_?T.Rl^ e8Ul^]
8fI]QW !^[i"F:G 采样斜光栅#2 I{/}pr> M%yeI{m
wBuos}/ "YC5viX 采样斜光栅#3 QL].)Vgf tv]^k]n{rf
D+nKQ4 4](jV}Hg 采样斜光栅#4 j3-^,r
t4 /v <FH}
/8cfdP Ba (BT{\|,V_m 文档信息 eNHSfq &c AFKYt