摘要 '\M]$`Et }0V aZ<j VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
|/;;uK,y FDal;T
U'aJCM +L|x^B3 介质目录中的斜光栅介质 46##(4RF FrC)2wX 5=&ME(fmV C2{*m{
D 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
oy-y QYX 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
MfZamu5+F (YM2Cv{4 斜光栅介质的编辑对话框 hVIv-> A <_{7F9 [vqf hpz ^r~O* 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
v{SZ(; 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
+rJDDIb 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
%xrldn% 斜光栅介质的编辑对话框 Ihp
Ea,v)
I0*N
"07n
x[=,$;o+ E7q,6f3@r 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
*ze,X~8- 以下参数可用:
y$+=>p|d.^ - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
Re+oCJ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
D"gv:RojD - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
gBr/Y}I
- 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
iG#92e4 $zM \Jd 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
=QK ucLo Rl&nR$# 斜光栅介质的编辑对话框 NL,6<ZOon, G.r .Z0 NxSSRv^rx Y-lwS-Ii 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
aLl=L_ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
`A9fanh h$mGawvZ~ 斜光栅介质的编辑对话框 ;d<O/y,:4 SAiaC _ jvxCCYXR Fi/`3A@68 &@FufpPw/ 首先,必须选择涂层材料。
P%ThW9^vnj 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
Y9I|s{~ 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
P_5 G'[ m&yHtnt 斜光栅的编辑对话框 hXvC>ie(i
L1WvX6
I5)$M{#a e,Z[Nox I:w+lchAMe 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
ayh235>a( 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
LcT;7yv 6v74mIRn'? 堆栈使用的评论 9kwiG7V1
U_hzSf
u1gD*4+ C\Z5%2<Z ej7L-~lxQ 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
xs
)jO+. 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
I2krxLPd 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
| #b/EA9 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
'v@*xF/L6a i9V, 斜光栅介质的采样配置 nN^lY=3 =f23lA 斜光栅介质采样
*CbV/j"P? ;.<HpDfG_ w+Gav4 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
0fLd7*1> 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
,B /b>i 在右边,显示了介质的预览。
[:}"MdU' 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
+=d= .|Yn[?( y2mSPLw 2G<XA 采样斜光栅#1 H:
;XU ggrkj0 d^v.tYM$N `~_H\_JpO 采样斜光栅#2
^w&!}f+ 2kk; z0f ;@:-T/= rVRv*W 采样斜光栅#3 |f\WVGH mi7~(V> =(Y0wZP| \KS.A
4 采样斜光栅#4 Gm3`/!r ]g }5p4*& o9yUJ@
:i ep0dT3& 文档信息 V6h8+|hK 6__HqBQ