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    [求助]高反膜机差问题 [复制链接]

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    离线dcfcwdx
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    只看该作者 10楼 发表于: 2018-03-03
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    ouyuu:怀疑是排气能力差异。 Pkq?tm$#  
    开镀真空一样吗?都开充氧了吗?充氧压力多少? (2018-02-02 09:16)  "'9[c"Iz  
    "4Bk  
    开镀真空一样,都是2E-3Pa,都开充氧了,目前最主要问题是稳定性不好,有些Run次镀出来是OK的,有些就不好,不知道是哪里造成的稳定性差
    离线ouyuu
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    只看该作者 11楼 发表于: 2018-03-06
    回 dcfcwdx 的帖子
    dcfcwdx:[表情]单层的PEAK对比过,确实是有差异的,关键是怎样调节折射率和吸收呢? (2018-03-03 22:41)  [i 7^a/e  
    O_bgrXg6x  
    是什么差异呢?整体向上偏移?还是波峰更高,波谷更低? G-#]|)  
    如果是吸收,那就改善充氧。 "$6 .L^9W  
    如果是折射率差异,那就改变蒸发速率。 6upCL:A~r  
    离线dcfcwdx
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    只看该作者 12楼 发表于: 2018-03-13
    回 ouyuu 的帖子
    ouyuu:是什么差异呢?整体向上偏移?还是波峰更高,波谷更低? Pi&8!e<  
    如果是吸收,那就改善充氧。 3g''j7  
    如果是折射率差异,那就改变蒸发速率。 ?V >{3  
     (2018-03-06 13:05)  ek9Y9eJ"  
    Oqy&V&-C  
    镀TiO2单层来比较是,较差的机台的波峰低,波谷高,也就是峰谷差小,还有,改善充氧就是改变APC压力吗?
    离线ouyuu
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    只看该作者 13楼 发表于: 2018-03-15
    回 dcfcwdx 的帖子
    dcfcwdx:镀TiO2单层来比较是,较差的机台的波峰低,波谷高,也就是峰谷差小,还有,改善充氧就是改变APC压力吗? (2018-03-13 20:40)  [ _N w5_  
    [Kc"L+H\  
    看起来像是折射率问题。 0S}ogU[k  
    你这边用离子源辅助吗? @}[yC['  
    如果有,就改变一下离子源参数 `of` uB  
    如果没有,就改一下电子枪速率看看。
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    只看该作者 14楼 发表于: 2018-03-23
    回 ouyuu 的帖子
    ouyuu:看起来像是折射率问题。 Q;EQ8pL?"  
    你这边用离子源辅助吗? W{6%Hh p  
    如果有,就改变一下离子源参数 N=hhuKt]  
    如果没有,就改一下电子枪速率看看。 (2018-03-15 23:35)  D6wg^ 'Q:  
    wy)I6`v  
    既然是折射率差异,那就直接按照两台机各自的折射率重新设计一下膜系不就好了么;如果要变更速率,那折射率不也一样跟着变了,变量不就多了么。
    离线yifeng602
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    只看该作者 15楼 发表于: 2018-03-26
    c(tX761qz  
    机台不一样,折射率是有差异的,这个差异在镀膜厚是就明显
    离线ouyuu
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    只看该作者 16楼 发表于: 2018-03-27
    回 奔跑的小骏马 的帖子
    奔跑的小骏马:既然是折射率差异,那就直接按照两台机各自的折射率重新设计一下膜系不就好了么;如果要变更速率,那折射率不也一样跟着变了,变量不就多了么。 (2018-03-23 11:51)  \8I>^4t'/  
    @y#QHJ.j  
    一般不建议改膜系,膜系不一致会带来更多问题。 0^27grU>   
    而且随着设备使用,说不定折射率还会变的,你就不停改膜系? le*1L8n$'  
    折射率则简单很多,找到影响折射率的因素这才是关键。 <}^W9 >u<  
    \; b)qB  
    其实也不叫变更速率,水晶设置有一项叫TOOLING,这个TOOLING值改变一下就相当于改了速率。
    离线qinshuai
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    只看该作者 17楼 发表于: 2019-01-09
    现在膜系成熟了没有??