光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
j+_S$T8w G 2% 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
j~,h)C/v QD$}-D[ 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
*Rz{44LP& 8 A2if9E3 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
RGT_}ni o"'iXUJ PHQ{-b?4t 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
`t{D7I7 d^KBIz8$5l !(kX~S 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
lZ}izl uz*d^gr} \e?.hmq 单击Next_Apply即可。
OOCQsoN ixOEdQ 7d3'CQQ4 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
n=f`AmF; yJnPD/i =y?#^ 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
%
2I f"Ost;7zg )r ULT$;i@ 单击OK.再Load新建的目标,
^[ET&" y7CWBTH0> 8ou e-:/a 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
CXBzX:T?# N1PECLS? S*4f%! 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
joe9.{ f.@Xjf