1. 建模任务
C[!MS5 1.1
模拟条件
9[c%J*r 模拟区域:0~10
iJ' xh n 边界条件:Periodic
{gNV[45 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
jOpcV|2 单位长度:0.5
qn1255fB I\~G|B me6OPc;:! 1.2堆栈
结构 UO*Ymj
1 vDl- "!G1 2. 建模过程
oh"O07 2.1设置模拟条件
<s5qy- @~c6qh rNjn~c 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 Ch$*Gm19Z 4'4\,o G0u LmW70 2.3创建掩膜并生成多畴结构
Ofm%:}LV Y{v(p7pl 3. 结果分析
~c)~015` 3.1 指向矢分布和透过率
?m$a6'2-,J :ISMPe3' P`s 3.2所有畴的V-T曲线
\<}&&SuH Ev7J+TmXM g;$Xq)Dd 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
kn)t'_jC :1t~[-h^