超黑纳米镀膜：新一代吸光消光技术

传统黑色吸光消光技术

在所有光学成像、探测、传感或显示的仪器或元件中，杂散光的消除，以及光学噪音的降低，对提高产品的质量、获取精准的数据等具有重要意义。传统黑色消光表面处理工艺，包括喷涂黑色涂料、黑色阳极氧化、电泳电镀、化学发黑等，这些传统工艺伴随着光学行业的发展已经得到了广泛的应用，在光学领域发挥着重要作用。

但随着现代精密光电元件和仪器在各个行业的应用越来越深入，市场对产品品质和精度的要求越来越高，传统消光工艺的缺点日益暴露，已无法满足产品和市场的要求。

首先，传统工艺在可见光波段反射率太高，普遍在10%以上，红外波段反射率更高，无法有效消除杂散光对光学系统的影响；

其次，传统工艺精度差、且可靠性不足；

第三，传统工艺适用的基材种类也有局限，产品选材因此受到限制； 

第四，传统工艺都是有污染排放不环保的工艺。

以上这些缺点极大地制约了产品质量的提升，也越来越无法满足当今市场的要求。在这种背景下，全新的高科技、高精度、高品质和超高吸收率的吸光消光技术的开发就非常迫切并具有重要意义

新一代技术：超黑纳米镀膜

超黑宽波段吸光消光纳米镀膜技术，是深圳市精石纳米技术有限在国内率先推出的最新科技，是新一代工业化的吸光消光技术。该技术采用独特的绿色环保高真空沉积工艺，在几乎任何基材的光学零件表面制备微米级的性能优良的超黑纳米涂层，总半球反射率可以低至0.5%以下，对入射光的吸收率超过99.5%，拥有最佳的广谱吸光消光效果，达到了国际先进水平，成功实现国产替代，也解决和突破了关键技术的卡脖子难题，有着非常重要的技术、经济和社会价值。

超黑纳米镀膜是在高真空环境下，控制特殊恰当的分子基团，在活性材料表面分子层沉积并生长制备出几百至几千纳米厚度的薄膜材料。该微米级的薄膜层可以将从紫外、到可见、再到红外的全波段入射光线以可控的吸收率全部吸收而不反射，从而根据吸收率的不同形成各种黑色外观： 黑色：半球反射率4%，吸收率96%， 深黑：半球反射率＜3%，吸收率97.5%， 超黑：半球反射率＜1%，吸收率99.5%。

超黑纳米镀膜的基本特点：

 1、高真空高能量制备，结合力好，低温沉积；

 2、高精密度，厚度只有几百纳米至几千纳米；

 3、纯无机材料，可以在-350至380°C高低温下工作；

 4、无任何杂质颗粒或挥发物产生，稳定可靠，耐候性好；  

5、可镀制在金属、塑料、玻璃、陶瓷等任何材料表面；  

6、可镀制在平面或立体零件上，也可以镀制在柔性薄膜表面；  

7、纯环保绿色技术，无任何污染物产生。