上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布
提供了一种投影物镜光学系统及光刻机，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括：第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。
 11月28日，上海微电子装备（集团）股份有限公司公开了其最新的光刻机相关专利。 据天眼查显示，上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”。申请日期是2022年5月19日，公布日期是​2023年11月28日。  天眼查专利页面截图 该专利摘要显示，本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括：第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。 其中，所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称，所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称，所述投影物镜光学系统是对称结构，且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度，以此可以在提高成像质量的基础上，增大曝光系统的视场尺寸，提升产率。  投影物镜光学系统结构图 |
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