Zemax OpticStudio 20.1.1新特性介绍
Zemax发布了王牌软件 OpticStudio 的最新版本，OpticStudio 20.1.1 将用更加完备的公差分析功能，业内领先的自由曲面设计功能以及定制化功能来开启崭新的一年。
 3、客户定制化功能 根据Kogelnik和RCWA方法，提升了准确模拟体全息光栅和表面浮雕光栅方面的功能。正确地模拟这些衍射光学元件可以计算出衍射效率，从而在进行光线追迹或图像模拟时能够得到真实的结果。  4、实验性功能 用户还会注意到在OpticStudio 20.1.1中包含了一些新的实验性功能。这些功能是我们计划6月发布的版本中的一部分。我们鼓励用户尝试这些功能并与我们分享使用反馈。 Zemax 首席执行官 S. Subbiah 博士表示：“在 OpticStudio 20.1.1 中，我们加入了能够帮助用户将他们的产品更快推向市场的新功能，这非常让人振奋。我们发现我们的新老客户都在公差分析、自由曲面设计方面有诸多需求。本次更新只是一个开始，我们将在接下来的一系列发布中聚焦于帮助我们的用户更加高效地构建更好的产品，同时降低生产成本。”  |
1.行业新闻、市场分析。 2.新品新技术（最新研发出来的产品技术介绍，包括产品性能参数、作用、应用领域及图片）； 3.解决方案/专业论文（针对问题及需求，提出一个解决问题的执行方案）； 4.技术文章、白皮书，光学软件运用技术（光电行业内技术文档）；
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文章点评
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cc940264057：希望可以早点用上(2020-03-11)
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海天骑行：功能越来越强大，流程能越来越简化。(2020-02-28)