如何模拟扫描镜
这篇文章介绍了：如何设置扫描镜建模时所需要的坐标间断面；如何利用多重结构编辑器设置多个扫描角度；如何对检流计式的扫描镜建模，其中镜面绕其顶点旋转；如何对多边形几何体式的扫描镜建模，其中镜面绕着一个偏心点旋转；
 可以看到布局图中所有三个结构都叠加显示了出来。此时反射镜面绕着它的前表面顶点进行旋转，该系统与检流计式的扫描镜 (Galvanometer Mirror) 结构类似。 您还可以使用组合快捷键Ctrl+A在不同结构间进行手动切换。在切换结构时，反射镜面、透镜和像面的半直径 (Semi Diameter) 会随着结构的切换而变化。这是因为半直径的默认大小为光线入射的区域再额外添加2mm的延伸区。OpticStudio可以自动将表面的半直径的数值设定为所有结构中的最大值。这需要将对应表面的半直径的求解类型设置为“最大 (Maximum)”。 当前这个透镜系统只对轴向视场进行了优化。当系统应用存在±5°的扫描角的情况下需要重新对透镜进行优化设计。打开优化菜单中的优化向导，如下图所示进行设置：   重新执行优化，OpticStudio很快会得到一个新的透镜设计，该透镜在扫描系统的所有扫描角下的光斑尺寸最小。您也可以打开示例文件中的galvanometer.zmx文件查看当前系统。  |
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