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  • OpticStudio中使用宏分析红外冷反射

    作者:Zemax China 来源:投稿 时间:2018-08-17 17:42 阅读:13688 [投稿]
    这篇文章讲述了如何在使用制冷探测的近红外系统中分析冷反射效应。

    在本例中我们对上述公式做如下假设:

    1.在工作波长下,探测器的归一化光谱相应为不变量,因此在计算式无需考虑该参数。

    2.大气透过率为1,也就是说NITD计算所参考的环境温度为镜头前的大气温度。

    3.在透镜各表面上的镀膜的透过率在整个工作波长下为不变量。因此t0(λ)、tj(λ)和Rj(λ)与波长独立

    4.机械结构和探测器的温度恒定,这意味着机械结构和探测器没有温度梯度。

    在执行宏之前,请确保:

    • 镜头设计的方向是从探测器到外部环境的。
    • 光阑面(STO)在表面1上。
    • 透镜组中没有任何坐标断点面或虚拟面。
    • 透镜组为旋转对称系统。
    • 透镜组只使用一种结构。
    • 已正确定义所有光学表面的膜层。
    • OpticStudio的鬼像生成器会从表面2开始到最后表面生成一个单次反射的鬼像文件,并保存在设计文件所在文件夹下。

    对于下面讨论的例子,鬼像聚焦工具的正确设置是:


    宏文件Narcissus.ZPL需要的条件有:探测器温度、机械结构温度、环境温度和OpticStudio鬼像生成器生成的单次反射鬼像文件。鬼像文件必须保存在设计文件所在文件夹中。使用者还需在渐晕图分析窗口的设置中通过单击保存按钮来保存设置。

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