ZEMAX非序列杂散光分析全流程

镜头设计后，杂散光分析是必不可少的， 杂散光分析工具很多，一般的照明仿真设计软件（Lighttools、TracePro、ASAP等）都可以胜任，而ZEMAX的非序列杂散光分析是很多人不太熟悉的，借此普及下ZEMAX的非序列杂散光分析流程。

以下介绍与操作示例基于OpticaStudio2016版本，如你使用的是2009或其他版本，请自行摸索相关操作所在的按键，在此不在赘述！

使用ZEMAX非序列分析杂散光的好处就是可以轻松无缝接轨序列设计好的文档，不在需要转档到其他软件，省掉一些麻烦和玻璃库不精确到来的光线追迹偏差。

内容目录：

1、杂散光成因

2、序列设计转换到非序列

3、光线追迹

4、Filter String光线筛选

5、Path Analysis分析光线路径

一、杂散光成因

主要成因是视野外的强烈光源机械结构的散射或视野内的光源通过镜片二次反射，而聚焦到像面上。而在其他系统中，还会有其他类型的杂光问题。