ZnO薄膜的结构、性能应用和制备
介绍了宽禁带半导体ZnO薄膜的结构、主要性质、制备工艺和应用等几方面内容。
 4.7.原子层外延生长法 原子层外延法是一种超薄薄膜低温生长技术,其特点是将参与反应的蒸汽源依次导入生长室,使其交替在衬底表面吸附而发生反应,慢慢淀积成膜,两气体束流同时还具有清洗生长室的作用。在生长过程中,反应气有很高的利用率,而且生长至一定程度时,薄膜的生长速率保持恒定,达到饱和时,反应将自动终止,具有明显的自限制机制,从而形成一定厚度的薄膜 。由原子层外延法制备的ZnO薄膜,表面光洁度高,化学性能更加稳定,目前主要用于太阳能电池。生长控制较好、受其它因素的影响较小也使该方法易于实现规模化,用于工业生产。 5.结论 ZnO薄膜以其自身结构特点及多种掺杂的可行性具备了多种优越的性能，涉及光学、电学等多种领域，触及光纤通信、集成电路、太阳能电池板和气体检测等日常生活、高尖端研究各个方面，又以其原料丰富、价格低廉、制备方法多样和工艺简单等优点，无疑具有广阔的研究和应用前景。 参考文献 [1] 马越雷，赵汝明，ZnO薄膜制备工艺的研究进展[J]电子元件与材料，2008年，第27卷，第8期 [2] 马越雷，赵汝明，ZnO薄膜制备工艺的研究进展[J]电子元件与材料，2008年，第27卷，第8期 [3] 赵印中，李林,等,ZnO 薄膜的结构、性能及其应用[J]真空与低温2009年，第15卷，第1期 [4] 赵嘉学,童洪辉. 磁控溅射原理的深入探讨[ J ]. 真空, 2004, 41 (4) :74 - 79 [5]王光伟, 张建民，等，ZnO 薄膜的制备方法、性质和应用[J]2008年，第45卷，第5期 |
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