光电子技术及其产业发展概况

场致发射显示（FED）是将真空微电子管应用于显示的技术。它具有视角宽、功耗低、响应速度快、光效率和分辨率高。用类金刚石材料作冷阴极和稀土离子掺杂的氧化物作发光材料，推动了FED的发展。
等离子体显示（PDP）的出现比场致发射显示（FED）迟一点，由于PDP电极发射面积比FED容易做大，所以也容易做成大屏幕的显示器，它的不足之处为驱动电压高，功耗大。FED和PDP的发光材料、电极材料以及电介质材料（低熔点玻璃等）等仍需不断改进和提高，从而提高发光效率和发光亮度，降低功耗，实现全色化和多级灰度显示等。
发光二极管（LED）显示技术出现较早，但由于价格高，制成大面积列阵比较困难，主要应用于大型显示板。近年来，电致发光的有机材料（OLED）有了新的进展，它容易制成列阵，所以比较引人注目。主要有两类：金属有机分子，（如Alq和双胺）可用蒸镀法制成异质结构；另一类为共轭聚合物聚对苯乙炔（PPV）用溶液旋镀法制成的。OLED是21世纪很有前途的显示器,但仍需要在发光亮度和量子效率、稳定性和耐用性等方面不断提高和改进。
各类光电显示器有不同的用途。平板显示器的布局可能是这样的：LCD主要用于小屏幕，袖珍携带式；平板CRT和FED用于中屏幕彩色显示；PDP用于大屏幕，壁挂式显示。
六、近年来我国光电子技术有较快的发展，研究开发力量也有所增强。在专业和国防应用方面的光电子技术取得较大成绩。但是在研究开发成果的转向生产以及在光电子技术产业中自主开发方面与国外的差距很大。这必须要引起特别重视。
光电子技术的主要方面的突破产生于美国，在R&D方面走在世界的前列，而光电子产业的形成又往往在日本，这主要是日本注重生产技术和家用（Consumer）市场的开发。巨大的投资产生了巨大效益。日本曾在半导体激光器、激光打印机、液晶显示器、光盘产业等方面在世界上处于垄断地位。1995年，美国光电子工业发展协会（OIDA）在考察和对比了美国和日本的光电子技术发展情况后，认为美国首先要在光电显示、光通信和光存储产业中加强生产技术的发展；光通信产业要注意市场开发；光电显示要加强制造业；光存储要加强研究开发。制定除了5年、10年的发展规划，要奋起直追。至今在光通信和光显示产业等方面赶上和超过日本。
光电子技术发展迅猛，光电子技术产业属高技术产业，除了看产业的发展规模，（我国大陆只占国际市场的5%的份额，与大国的地位也不相称），还要看竞争能力。从科技背景（政策、经费和人力资源）、产业环境（世界市场占有率、企业规模、产业结构、行销能力）和科技实力（专利件数、产品开发、关键零组件、量产能力）3个大方面，对光电子产品的主要生产地区的评估。可以看出，我国（大陆）的综合竞争能力远低于日本、美国甚至台湾、韩国。特别在行销能力、关键零组件生产、专利件数和市场占有率等方面。不能不注意到，我国（大陆）大部分的光电子企业还是作来料组装，贴了别人的商标去出口。这在生产刚开始形成时是可以的，但不能长久这样下去。关键在于立足自主开发和创新上。
资料：
[1]干福熹。光电子技术和产业的发展。中国科学院院刊，1996，（5）：366-367；周光 召主编，共同走向科学，新华出版社，1997：364-375
[2]干福熹。光子学的发展-对当代信息技术的影响。世界科技研究与发展；20[3]（1998）32-34
[3]干福熹。光电子产业发展和我国的战略，科技导报，12（2001）6-8