[讨论]离子源加速电流是否越大越好 [复制链接]

现在使用的离子源存在两个问题： @p\te7(P%  
1、加速电流非常不稳定，突变比较大，数量在10mA以内波动；是否跟离子源工作状态的稳定性有关？ #;lB5) oe  
2、加速电流设置不知道多少数值为佳？ N t-8[J  
有没有懂得，指点一二。 wvnuE<o8  

是不是設定在最大輸出功率 的60~80%，會不會是比較妥當的~ 0{k*SCN#  
qN@-H6D1=  
加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓

10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 %AV[vr
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加速电流变化一般是气体流量的问题，气体流量是受真空压力变化波动的。 \1H~u,a  
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。 AZ'"Ua  
.8~zgpK  
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 dp=#|!jc  
所以最大电流分布是最好的。但是电流大了电压高了， ,>vI|p,/G*  
温度也就高了，膜系的应力会受影响。 XT<{J8 0z  
可能会产生脱膜，变形等问题。

rexchou:是不是設定在最大輸出功率 的60~80%，會不會是比較妥當的~
加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓 (2017-12-01 10:06)   b :J$  

CDRkH)~$  
加速电压是膜系参数设置的，电流好像可以通过界面设置，但是镀膜过程记录中这个加速电流一直在波动，外观做不好，我怀疑跟这个有关系。但是不能确定，所以问一下你们有没有做过这些验证。

ouyuu:10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 ~BJ~]~0P`  
加速电流变化一般是气体流量的问题，气体流量是受真空压力变化波动的。 acdWU"<  
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 }[%d=NY  
....... (2017-12-01 17:22)  qp6*v&  

Bt\z0*t=s  
膜层倒是没有受多大的影响，但是外观感觉不太稳定，会不会与加速电流波动有关啊？

外观？指颜色还是发雾，或者是灰尘？ #ErIot  
原因不一样的。

我以前有一个类似的情况：我是AR气瓶端接口处漏气，使MFC气流量不稳定，但beam电流是稳定的，镀出的膜色也不稳定。你那个情况beam不稳，折射率有偏差。

10mA的变化不算什么。如果设定是1000mA的话，也就1%左右。 q~K KN /N  
这点变化量比伞差还小，根本不可能引起折射率问题。 5
*d  
vGT#BS%  
漏气也不太可能造成气流不稳。 dK45&JHoW^  
气流是MFC控制的，而漏点在MFC前面，漏不漏气MFC一样控制。 D<m+M@u  
真正的原因在气体纯度变化了，空气里大部分是氮气。 -p:X]Ov  
你镀的氧化物材料变成了部分的氮化物材料。

ouyuu:外观？指颜色还是发雾，或者是灰尘？ s^/<6kwO  
原因不一样的。 (2017-12-04 00:36)  rsp?N{e  

Di3<fp#w#  
外观就是点子，具体是灰尘还是啥，还真不好说，呈现出来的是密集型的小点子一样。

点子更可能是中和器引起的。 n')#]g0[  
中和器多维护，点子就会少很多。