[求助]光弛1300镀膜机离子源栅网更换后氧化硅与氧化钛匹配系数失衡，请大神帮忙分析一下 [复制链接]

各位好，最近在生产中发现镀膜机固定的2套栅网周期性更换后，内外圈氧化硅与氧化钛材料匹配系数失衡，导致曲线频谱落差变大，请各大神指导一下从哪些方向上分析改善。 _Qd,VE 8u  
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修补正板

一楼正解，大家一定要注意的是，离子源的状态会影响膜层的位置均匀性，更换离子源部件或者调整离子源参数都可能会发生楼主那样的情况

如果只是镀前轰击的话，会不会影响镀膜的均匀性。遇到过在镀后轰击会引起膜层不均匀的现象。

首先 检测的是 离子源栅网更换是的重复性工作，其次才是MASK

MASK只是修正钟罩的，而钟罩是不变得。所以我们要从以下几个方面去考虑： ^ 4hO8  
1、钟罩是否变形，你可以从钟罩的几个不同的位置去取测试片对比以下特性的差异，有可能是因为钟罩变形，每次取的测试片位置不一致导致特性不停的变动； YJF#)TkF  
2、查看离子源的蒸发角度是否发生变化，主要是离子源的倾斜角度，出厂都有参数的。角度变化导致离子分布变化，从而影响特性； !~iGu\y  
3、电子枪系统是否发生变化，光斑相对于钟罩的位置等等。 yy2I2Bv  
4、修正板是否变形，修正板机构定位是否有变动，主要就是修正升上去后，相对于球罩的位置是否发生变化。 "$^0%-  
如果以上均没有问题，再去考虑修正MASK。一般不要轻易的去动MASK。因为他是死的。 n!ok?=(kQ  
希望能够帮助到你。

也不知道楼主解决这个问题没有，看了好多的提问，经常是有人帮忙出了建议，不管有么有用，问题有没有解决，告诉一下大家也是好的呀，也能帮助一下别人遇到了此问题的人

栅网和镀膜伞应该可以固定同一个使用吧？ 15H6:_+=0  
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学习学习

同样遇到这种问题，不同栅网更换后会导致曲线均匀性的变化，哪怕是同一个栅网在每次保养完成以后也尽可能的连续性镀同一膜系类型的产品，这样是最能保证产品重复性的（针对5nm余量的高要求产品），如果中间穿插其他产品或者待机一天再镀时，镀前最好式样一罩，根据实际镀后的变化两量去调整膜系参数，除此以外也确实很难找到更好的办法