膜外⽩雾 >Vjn]V5y
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 YnRO>`
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） ^2nrA pF
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： xdgAu
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； vxj:Y '}
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 /HpM17
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ A*?PH`bY
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ b4i=%]v8
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 Q(nTL WW
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 j2<+[h-
⑦ 膜与膜之间的应⼒ CqlxE/|
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 l|?tqCT ^h
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 \&hq $
改善对策： W Su6 chz)
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 lAP k/G
洁） C $TU
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㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 HS/.H,X
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 uBx\xeI
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 y>aO90wJ
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 Ee2 P]4_d
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） $t):r@L
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 B_Q{B|eEt&
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 V;xPZ2C;
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 MmN{f~Kq9
膜内⽩雾 ;v@ G
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 tfGs| x
可能的成因： "Zgwe,#
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 WJh TU@'
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 rM ,e$
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 ,bl }@0A
④ 氧化物充氧不够。 $h {m")]
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 4@@Sh`E:
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 ly17FLJ].
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 +9b{Y^^~T
⑧ 环境湿度⼤ _w4G|j$C
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 |VWT4* K
问题。 uI7n {4W*x
改善对策： z_ $c_J
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 ]u |v7}I4
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 6M T
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㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ Q PDh!A3T
燥、⼲净。 pD %(Y^h?
㈣改善环境 PlzM `g$A
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 q>2bkc GY#
㈥改善洗净、擦拭效果。 hT X [W%K
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） g8##Be
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） eut2x7Z(c
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 < #C,66k
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
