膜外⽩雾 }z/%b<o_
现象:镀膜完成后,表⾯有⼀些淡淡的⽩雾,⽤丙酮或混合液擦拭,会有越擦越严重的现象。 I>l^lv&[+
⽤氧化铈粉擦拭,可以擦掉或减轻,(⼜称:可擦拭压克) ^4,LIIUj
分析:膜外⽩雾的成因较为复杂,可能的成因有: /^jl||'H,:
① 膜结构问题:外层膜的柱状结构松散,外层膜太粗糙; 1>\V>g9
② 蒸发⾓过⼤,膜结构粗糙。 h {J io>
③ 温差:镜⽚出罩时内外温差过⼤ =2(52#pT
④ 潮⽓;镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ Y=Ic<WHR
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 JBq6Qg
⑥ 蒸镀中充氧不完全,膜结构不均匀 *v(Q-FW
⑦ 膜与膜之间的应⼒ di+|` O
改善思路:膜外⽩雾成因很多,但各有些特征,尽量对症下药。主要思路,⼀是把膜做的致密 6hR `sE
光滑些不容易吸附,⼆是改善环境减少吸附的对象。 ?5B?P:=kl
改善对策: Nc[N 11?O
㈠ 改善膜系,外层加⼆氧化硅,使膜表⾯光滑,不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境(⼲燥、清 u.n'dF-
洁) ^yl}/OD
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度(延长在真空室的冷却时间)减少温差、降低应⼒。 9dAtQwGR"6
㈢ 改善充氧(加⼤),改善膜结构。 -\B*reC
㈣ 适当降低蒸发速率,改善柱状结构 :|ahu
㈤ 离⼦辅助镀膜,改善膜结构 T+RC#&>
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀(其功能是及时带⾛⽔汽) 4bw4!z9G
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 jy>?+hm?
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 {fV$\^c
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 P4{~fh (
膜内⽩雾 >)diXe}j
⽩雾形成在膜内,⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 ] `q]n
可能的成因: ?VRsgV'$
① 基⽚脏,附着前⼯程的残留物 #rr!ApJ
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 v?,@e5GZ
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 [7r^fD
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④ 氧化物充氧不够。 :O&jm.2m
⑤ 基⽚进罩前(洗净后)受潮⽓污染 l.g.O>1
⑥ 洗净或擦拭不良,洗净痕迹、擦拭痕迹 /|H9Gm
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 IqepR
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⑧ 环境湿度⼤ UA~ 4O Q]
改善思路:基⽚本⾝的问题可能是主要的,镀膜是尽量弥补,镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 w8 UUeF
问题。 n=$ne2/
改善对策: bnanTH9-
㈠改进膜系,第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 3pW4Ul@e
㈡尽量减少真空室开门时间,罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 !||Gfia
㈢真空室在更换护板、清洁后,最好能空罩抽真空烘烤⼀下,更换的护板等真空室部件必须⼲ 3}mg7KV&
燥、⼲净。 Rmn{Vui9\
㈣改善环境 H7Z`a QC
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚,免受污染。 ibwV#6
㈥改善洗净、擦拭效果。 's5rl
㈦改善膜匹配(考虑第⼀层⽤Al2O3) Q_iN/F
㈧改善膜充氧和蒸发速率(降低) #$2/<
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 s]kzXzRC?
㈩抛光加⼯完成的光⾯,必须⽴即清洁⼲净,不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。