膜外⽩雾 q3AqU?f
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 c/Xg ARCO
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） [Ur\^wS
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： ,jOJ\WXP
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； 'IG@JL'
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 0z'GN#mT5
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ H4s~= iB
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ 3 P9ux
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 DmpT<SI+ !
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 #=t/wAE y:
⑦ 膜与膜之间的应⼒ #F`A (n
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 As< B8e]
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 l|=4FIMD
改善对策： O&1qL)
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 RFM Ph<Ac
洁） Keozn*fzI
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 ; h\T7pwwb
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 =hkYQq`Q
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 oQ 2$z8
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 _]-4d_&3(
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） &W ,jR|B
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 g:>'+(H ;
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 -~mgct5
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 $P=C7;
膜内⽩雾 L.Qz29\
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 IdQ./@?
可能的成因： =j6 2tDS
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 H R}O:2'
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 fes s6=k
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 X*QS/\
④ 氧化物充氧不够。 -}#HaL#'K
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 j-":>}oW2.
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 ]1|P|Jp
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 nN\H'{Wzd
⑧ 环境湿度⼤ 83n%pS4x
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 $@D a| d4
问题。 qOwql(vX
改善对策： L5-|-PP|;
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 a YWWln
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 ^U }k
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ H"# ITL
燥、⼲净。 K]hp -QK<
㈣改善环境 l4>^79* *
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 T#) )_aC
㈥改善洗净、擦拭效果。 2;8m0+tl
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） m^k0j/
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） Nc;O)K!FH
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 ;V
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㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
