摘要：在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程，軟體中內建各種工具讓
序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌，其中包含一鍵轉換非序列，以及關鍵光線組等工具。
N Qk aW) 本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光，內容包含：
sjr,)|#[ * 介紹雜散光
&riGzU] * 轉換序列式設計到非序列模式
QPJ \Iu@D$ * 設計鎖定工具
/SD}`GxH * 關鍵光線組產生器 & 追跡
3@> F-N * 用 Filter String 篩選光路徑
,#A(I#wL~ * 使用 Path Analysis 工具分析光路徑
W)In.?>]W r 9i? H 文章發布時間：April 23, 2017
?Z7`TnG$uf 文章作者：Michael Cheng
L*(9H ti tS 'lJu 簡介
9-KhJq% 使用者用序列模式設計鏡頭，處理完
成像品質、畸變、相對
照度以及
公差分析等問題之後，在原型製作之前，還會需要進行機構相關的分析，以避免出現多重反射的鬼影或強烈
光源散射的雜光。一般來說，雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統，最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例：
* qd:f!Q3 
I&;>(@K #j Q auO 在照相領域中，常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射，或是視野內的光源通過鏡片二次反射，聚焦到像面上這兩種。而在其他系統，例如天文望遠鏡，可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例：
I0Pw~Jj{ 
5 p;AO N K,E/.Qe\C .+9hm | 開啟範例檔
Dqx#i-L23 首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx
,=:K&5mCv 作為前置作業，讓我們先把所有的鍍膜都取消，因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。
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`8:)? 0Ez ?"6Zf LRi L"bOc'GfQ 設計鎖定工具
:
\+xXb{ 接著我們執行Design Lockdown工具，此工具會調整使用者的系統設定，使鏡頭符合實際運作的條件，分析結果更正確。
)
7/Cg 粗略來說，這個工具所執行的步驟如下：
Kc MzY * 開啟 Ray Aiming
uN|A}/hr] * 系統孔徑設為 Float By Stop Size
l!mbpFt * 改為 Angle 或 Object Height
Mt[yY|Ec| * 固定表面孔徑：Circular Aperture
3Vb4zZsl * 移除漸暈係數
"yn~ax k7 關於更詳細的說明，使用者可以參考Help文件的說明。
k ut=( ; -aoYoJ ' 
^ X =Q{nB WRh5v8Wz0 產生關鍵光線組
R 'Sd'pSDN 在轉換到非序列模式之前，讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線，這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中，直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下：
IC `3%^ /WrB>w 
o a Y_6 NB-dlv1 轉換到非序列
sVLvnX, 在OpticStudio分析雜散光最方便的就是，我們只需要一個步驟，就能快速地切換到非序列模式中。
BQ@7^E[ 有關於序列到非序列模式的切換，我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章，讀者有興趣可以參考，此文章標題為：轉換序列式面到非序列物件
Hq3|>OqC2Q bjZJP\6 
7aG.?Ca% DD| 0 ?i 按一下OK後，可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表，可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface，而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件，他們的位置跟原本序列式系統中的像面，視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外，跟原本序列模式並無不同。
L$Zj MJ Pf*6/7S: 
$*Ucfw1T ]P4Wf V
d 非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同，其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗，並勾選 “Split NSC Rays”，就可以看到如下圖：
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`zd,^.i5~ 
C"hN2Z!CD| %( )d$.F 我們也可以用Shaded Model觀看，效果如下：
|LHJRP-Z SeX ]|?D 
wq )*bIv 9^gYy&+>6] 檢查關鍵光線組的狀況
pwFp<O " 讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下，可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時，將會需要把機構元件的
CAD檔匯入，再次使用此工具，確保機構沒有不小心遮蔽到主要
光束。
<I+k B^ Er ({f}Z- % 
=%Y1 ] F B}e/MlX3M 分析雜散光所需的設定
VUb>{ &F[ 在開始追跡檢查雜光狀況之前，讓我們先來調整一些必要的設定。
}LHYcNw^z 首先是把最大光線分裂次數，以及最大光線與物件交會次數調整到最高，在雜光的分析中，有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的，如果分裂次數或交會次數的設定不足，可能無法充分分析到所有狀況。
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MK&,2>m,A Y]z
:^D 然後我們把追跡的光線數降低到5000條，原因是分析雜散光時，通常一條光線會分裂為非常多的子光線，比起不分裂的狀況，速度可能慢上十幾倍到百倍不等，這邊以示範為目的，因此我們把光線數量控制到較少的5000。
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@HT\Y%E ' \JE># 最後一步是把探測面的
像素數設為150x150，這會讓追跡的速度較快。
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p{f R$- d 初步追跡結果
Y(Q
0m|3P 然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡，如下圖設定操作。
2d)Dhxzxk 注意如下圖所示，追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。
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K 
Q !X?P A*JOp8\) 追跡完畢後開啟Detector Viewer，此工具的位置如下。
a:FU- ^B4~ Gh;\"Qx 
coP->&(@U# r\NqY. U& 並且設定視窗如下圖。
A8{jEJ=)P aZ#FKp^8H 
*?)MJ@ uD\R3cY 可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。
&@~K8*tmK |9* Rnm_ 
#bOv}1,s Z8v\>@?5R 使用Filter String
19 5_1?'< 現在我們要找出這些雜光的發生原因，並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光（鬼影光）。為了特定出這些特定的光線，我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的
功能（下圖中紅框框起來的部分）。
o9kJ90{ D= FP@_V -
Mz@{_*2 ,Py\Cp=Dw 接下來我們要使用一個快速的技巧，從前述的鬼影光線中，把入射到像面（探測器）上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的，如下圖紅框的部分，此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例，預設是1x10^-6，代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。
x :SjdT 現在請輸入0.005，這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時，就停止追跡。
\GFq RRn
:1' 
2/-m-5A T(!1\ TB 此時回到Layout中，重新整理多次之後，可以看到以下幾種路徑。
Ly= . G u;40)gm 
$LP(\T([ B'Yx/c&n 
9 2TuuN#{ wL;OQhI 給透鏡加上鍍膜
Fh~9(Y# 為了輕減這些鬼影光，我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層（coating），並了解其效果。
xP8/1wd. 這裡我們在
&3vm
@ 物件6的Face 2以及
y?s z&*: 物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。
H_xHoCLI 7qC
/a
c 
]TvMT '}cSBbl&/n 再次追跡之後，就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。
pte\1q[N y-pdAkDh 
rwWOhD)RU =?]`Xo,v~ @ &jR^` Y. 分析特定區域的光 (使用Filter String)
_Sjj|j 初步排除基本雜光之後，我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光，現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的，要怎麼辦？
Fe8X@63 [s}W47N1 
c |0p'EQ &A:&2sP8 這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中，Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中，可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的，我們還可以使用邏輯符號，例如「&、|、^」等，來組合出無限多種篩選條件。
It*U"4lgi 現在我們要利用以下四個指令的組合，來達成篩選上述區域的功能。
ju2H 0AQ PKlR_#EB? 
yY]x' 'K F:zmO5L5 現在讓我們重新追跡，並且這次追跡時，要勾選Save Rays的選項，如下圖。
f 2.=1 )u. 這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。
f]*;O+8$LN 5;`Ot2 
73qE!(
%[XP}L$ 然後我們回到Layout中，讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史，並輸入剛剛的Filter String。
[3dGHf;miw m2SJ\1 J= 
9>{fsy 'IU3Xu[-. 注意我在前面額外追跡設定了{#50}，這代表要篩選出代表性的50條光線。
4KH'S'eR 7 [e-3 回到Layout中，就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。
S @[]znH 但這裡出現了一個問題，那就是我們發現有太多可能的路徑。
gj|5"'g% 根據經驗，我們知道不可能所有的路徑都是強烈的，這些路徑中，很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。
$YJ 1P O 0}uY:B 
^*jw e^ hy / g*> 
X#1WzWk ' \p:)Cdn 進階路徑分析
nscnG5'{+ 因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具，工具位置如下。
ll__A|JQ 注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。
& n*ga$Q ) [eTZg 
a3 n
Wt p$"~v A . 分析後可以看到所有路徑中，幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。
5$i(f8* 讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。
(o{ Y;E@/y 把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單，只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。，可以看到如下圖。
?C CQm hq"n RH 
G! %m~+", *mV?_4!,f7 啊哈！分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑，實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。
ts=D 2fdN@iruB 下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果，跟前面一樣，我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。
r@JMf)a] "tT4Cb3 
!I |_vJ@< Ew4D'; &; 
F OD'&Yb& O:v#M] 
N 75U.;U0 ,3rsjoKhd 
A}! A*z<9 xlcCL?qQj （转自：中文版 Zemax Forum ）
