ZEMAX光学设计标准成像培训(武汉/深圳)
开课时间: 2017年5月15-17日 武汉 2017年5月24-26日 深圳 ● 主办单位 南京光研软件系统有限公司ZEMAX 软件大中华区代理商 南京理工大学 电子工程与光电技术学院 新加坡光学与光子学学会OPSS ● 课程形式 讲师讲授与学员互动式教学,课程均采用小班授课模式,下机讨论并指导上机练习,教材与PPT同步教学,通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。 ●课程特色及内容 ☆本课程为ZEMAX标准学习课程,专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置,通过本课程密集培训和练习互动后,学员能达到独立轻松设计光学系统,并能进行分析及优化和公差评估。主要内容包括: 1、光学理论基础介绍,几何经典成像理论,像差理论,一阶光学与三阶光学计算像差,像差产生原因 及平衡像差的方法。 2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。 3、光学系统设计实例,包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计,从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构,变焦镜头、扫描镜头设计。 4、ZEMAX的优化技巧探讨,设定评价函数及评估系统性能的方法,优化操作函数的选择,玻璃材料的优化方法。 5、衍射光学理论,衍射极限系统分析,MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。 6、热分析理论,热分析实例操作,热分析相关的操作数解释及热分析分析流程。 7、非旋转对称系统、多反射镜系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。 8、多重组态介绍及多重组态系统案例分析。变焦系统,变倍系统以及马赫曾德干涉仪系统案例分析。 9、光学系统公差分析,模拟实际加工及装配中产生的误差,预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤,蒙特卡罗结果分析集阐释。 ● 费用及优惠 成像班:4000元/人 ☆ 光研软件购买客户或者同一单位有三人以上报名可享受8折优惠 ☆ 同时报两门课程或者两人一起报名可享受85折优惠 ☆ 光研书籍购买客户或者提前一个月报名可享受9折优惠 ☆ OPSS新加坡光学与光子学学会会员报名可享受9折优惠 |