如下要求,基片为晶体, ccHf+=
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% e(?w h
c;$4}U4
06S
R74
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% f_jhQ..g<g
CP~ZIIip"
LTTMa-]Yy
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 q#W|fkfx+
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 X@\W*
nq
配置的设备才能做出来,谢谢