如下要求,基片为晶体, n(?BZ'&!O
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% Uy5G,!
u5E\wRn
b,):&M~p
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% 6Us*zKgW
?$Jj^/luD
5!*@gn
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 "DsL$D2e
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 mVNHH!
配置的设备才能做出来,谢谢