如下要求,基片为晶体, #mFY?Zp)
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% ?gGmJl
5GHW~q!Zo\
gf]k@-)
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% J+]W*?m
B]_NI=d
79Y;Zgv
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 5Mb5t;4b
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 dyyGt}}5f
配置的设备才能做出来,谢谢