如下要求,基片为晶体, pd|l&xvka
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% J\FLIw4
dGUiMix{N
4b+_|kYb
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% mKoDy`s
V+zn`
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WpOH1[8v
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 \TLfLqA
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 q;#bFPh
配置的设备才能做出来,谢谢