如下要求,基片为晶体, 9D@
$Y54
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% V@krw"vW
aDEz|>q
ZslH2#
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% `q
= e<$
XRoMD6qf;
lO=+V 6
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 K5l#dl_T
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 pkTg.70wU
配置的设备才能做出来,谢谢