如下要求,基片为晶体, T`r\yl}
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% L`0}wR?+
.6y(ox|LL
nISfRXU;
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% Bt1&C?_$T
/rmm@
YhJ*(oWL
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 Y)9]I6n7
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 `yWWX.`
配置的设备才能做出来,谢谢