如下要求,基片为晶体, ?#/~BZR!
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2%
"lBYn 2W
XlxM.;i0H
Xcc i)",!
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% E*#5OT
-dH]_
~PedR=Y0n
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 Qs8Rb ]%|
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 F Xp_`9.zH
配置的设备才能做出来,谢谢