如下要求,基片为晶体, >rsqH+oL
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% PU<PhuMd
r|Z5Xc
'x"08v$
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% jE2}p-2Q0
;)AfB#:d
c]-*P7W
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 LwcIGhy
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 5N[9
vW
配置的设备才能做出来,谢谢