如下要求,基片为晶体, t+iHQfuP9A
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% D(RTVef
5BKt1%Pg
T
iiW p!mX
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% .QJ5sgmh
8Sh54H
L(-b@Joh
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 F!Q@u
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 [^e%@TV>d
配置的设备才能做出来,谢谢