ZEMAX光学系统设计实战	Zemax光学设计从基础到实践	成像衍射光学元件设计及应用	现代光学与光子学技术
讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商	微小光学与微透镜阵列	光学设计与光学元件	计算光学带来的成像革命

发帖回复

12 3 4

12698阅读
39回复

[求助]在PMMA基底上冷镀膜出现裂膜，膜层不牢固 [复制链接]

上一主题下一主题

离线dumoty

工程师

发帖: 69

光币: 4766

光券: 0

只看楼主倒序阅读楼主发表于: 2015-04-21

回复本帖可获得5枚光币奖励！
每人最多可获奖1次，奖池剩余0枚光币 (中奖几率80%)

关键词：镀膜工艺 PMMA

在PMMA基底上镀AR膜系，905nm增透。
基片经超声波中性洗剂清洗后，放在恒温箱中75℃，退火2h；在光驰机器中不加热，开离子源，真空抽至2E-3开始镀（Ta2O5/石英环）。
出锅后，基片上的膜层就出现明显裂痕。
基片翻面放进机器，降低镀石英环的离子轰击能量，并在出锅后，直接放入恒温箱中75℃退火2h。结果是基片没有裂痕，但膜层一擦就掉。
请教下各位，应该怎样有效的降低PMMA的内应力，工艺上有哪些不当的地方希望可以不吝言辞予以指正，谢谢！