光学设计和工艺制造培训班（南京 4.27-29）

发布：wjjandlh 2015-04-02 17:00 阅读：5634

开课时间：2015年4月27-29日

开课地点：南京

● 主办单位
南京光研软件系统有限公司ZEMAX 软件大中华区代理商 http://www.wavelab-sci.com.cn
南京理工大学电子工程与光电技术学院
松铖光学仪器有限公司

● 特邀嘉宾

邱忠杰老师
毕业于浙江大学光学仪器系光学专业。1989年分配进海鸥照相机总厂，从事光学工艺工作，并成为海鸥年轻一代光学工艺代表人物，为当时海鸥的的光学加工做出了杰出的贡献。1997年创办松铖光学仪器有限公司，一直从事着光学工艺的研究，并取得准球心精磨抛光机、准球心圆摆式精磨抛光机、杠杆式下摆机等实用新型专利，工艺技术获得到同行业的认可和好评。2001年创办了光学工艺论坛，并在业界取得了很好的影响。

● 课程形式
讲师讲授与学员互动式教学，课程均采用小班授课模式，下机讨论并指导上机练习，教材与PPT同步教学，通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。

● 费用及优惠       4000元/人
☆ 光研软件购买客户或者同一单位有三人以上报名可享受8折优惠
☆ 凭光研会员卡可享受8折优惠和积分双重优惠
☆ 两人一起报名可享受85折优惠
☆ 光研书籍购买客户或者提前一个月报名可享受9折优惠
以上费用含培训、教材、发票、证书和午餐，其他费用自理。发票统一开“培训服务费”。

● 课程说明
统一发送配套的培训教材，学员自带电脑，课程结束后颁发培训证书
参加此期培训班学员，赠送南京光研会员卡一张（含此期培训积分）
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式。
此期课程报名截止日期：2015年4月22日

● 报名咨询热线
联系人：吴小姐
电话：025-85099608（直线）    025-52657057-8905   传真：025-52657058
E-mail：amy@wavelab-sci.com.cn  sales@wavelab-sci.com.cn

● 课程内容

光学设计部分：

1、光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因

及平衡像差的方法。

2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语和光学系统规格的解释。

3、光学系统设计实例，包括经典成像系统，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，扫描镜头设计。

4、ZEMAX的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。

5、衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。

6、非旋转对称系统的模拟。使用坐标点精确模拟系统偏心旋转的方法。

7、光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析集阐释。

工艺制造部分：

1、工艺理念及工艺论述：以道一的角度讲述万物的共性，以工艺的特点讲述工艺的本质，帮助我们正确的对工艺问题的理解。工艺论述，经工艺理念角度讲述透镜加工流程的各个要点，重点讲述对设计要求的工艺内容。

2、实际案例分析：同心圆零件的磨边，研磨零件的状态调整，下摆机的理解，及其他主要球面加工典型设备的理解，磨边机的关键要素调整等

3、工艺：从铣磨，精磨，研磨，磨边，镀膜，膜合一些基本的方法及工序目的和原理

光学设计和工艺制造培训班 课表

时间	第一天	第二天	第三天
9:00-10:30 第一节	Zemax综述基础光学像差平衡	扫描系统实例公差分析过程公差操作数	实际案例分析如下摆机加工，磨边等
10:30-10:45	Coffee break	Coffee break	Coffee break
10:45-12:00 第二节	单透镜设计初始优化方法采样及参考点选择	蒙特卡洛分析问题解答培训总结	实际案例分析如下摆机加工，磨边等
12:00-14:00	Lunch break	Lunch break	Lunch break
14:00-15:30 第三节	双胶合透镜设计玻璃材料优化方法衍射和MTF	工艺理念及工艺论述	工艺问题交流
15:30-15:45	Coffee break	Coffee break	Coffee break
15:45-17:00 第四节	双高斯镜头优化实例坐标断点局部坐标系	工艺理念及工艺论述	工艺问题交流

本课程配备培训教材

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