[讨论]光控镀膜时，光控片及监控波长的使用方法 [复制链接]

我们一般是两层（我是新柯隆的） o\><e1P   A6UdWK  
先镀高折射率，再镀低折射率。 wKpb%3   ?+,*YVT  
另外，监控波长的选择也很有讲究， - q(a~Ge   O})u'  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。 ShlTMTgS   <m/b]|  
T.')XKP)1N   ZCE%38E N  
如果第一层镀低折射率，会影响准确度。

各位大神 %EVV-n@  
宽波段时（近红外）监控波长如何设定

长江:我们一般是两层,光驰机器，先高折射 率，后低折射率 (2016-09-10 20:24)  j*;*Ka w  

&\[Qm{lN  
同是光驰机，也是监控两层

我们一般控制一个光控点控制两层，高折射率一层，低折射率一层 dr|| !{\  

回头比例一般控制在5~95%

ouyuu:我们一般是两层（我是新柯隆的） wc"9A~  
先镀高折射率，再镀低折射率。 J)_>%.
 
另外，监控波长的选择也很有讲究， Bu&So|@TL  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。
....... (2014-04-04 15:06)  @]*[c})/  

1bd$XnU  
为什么第一层镀折射率会影响精准度?

第一层低折射率，常常为二氧化硅，因为其折射率跟监控片接近，光量变化不大，光控不容易判断准确。 JT}.F!q6E  
第一层用二氧化硅还是很普遍的，也有优点。 TopHE  

dcfcwdx:为什么第一层镀折射率会影响精准度?[表情] (2018-09-02 12:00)  e?P%wqB  

C B/r]+4  
膜林的专家已经讲的很清楚了。 ioWo ]  
因为光控片的折射率和SIO2接近，直接在光控片上镀SIO2光量变化很小，
modC6d%  
放大后的光控波形上能看到有很多毛刺，这会影响光控电脑判断PEAK和截止点的精确度。 F\-Si!~oOz  
先镀高折再镀低折则能避免这种情况。 b)`pZiQP  
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W+\?~L.  
O@wK[(w^  

我司是用光馳 JD
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一個監控點=控制兩層(高、低折射率) Mg\TH./Y:  
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高折射 start set 20 ；低折射 start set 80 =k_UjwgN^  
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選擇監控波長，我會選過一轉折點後的30%左右。 {m[Wyb(  
kC`Rd:5  
另外注意的是 還要配合一開始校正光源的頻譜圖，避開一些不好的監控點

看评论有很大帮助，不然一头雾水