[讨论]光控镀膜时，光控片及监控波长的使用方法 [复制链接]

我们一般是两层（我是新柯隆的） o\><e1P   4,f[D9|:  
先镀高折射率，再镀低折射率。 wKpb%3   uR)itm
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另外，监控波长的选择也很有讲究， - q(a~Ge   P&| =  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。 ShlTMTgS   G/(oQA  
T.')XKP)1N   )?'sw5C  
如果第一层镀低折射率，会影响准确度。

各位大神 c%pW'UE&  
宽波段时（近红外）监控波长如何设定

长江:我们一般是两层,光驰机器，先高折射 率，后低折射率 (2016-09-10 20:24)  Kyl(  

2~J|x+  
同是光驰机，也是监控两层

我们一般控制一个光控点控制两层，高折射率一层，低折射率一层 !h4So4p  

回头比例一般控制在5~95%

ouyuu:我们一般是两层（我是新柯隆的） W7 E-j+2  
先镀高折射率，再镀低折射率。 9..k/cH  
另外，监控波长的选择也很有讲究， Y>%NuL|s  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。
....... (2014-04-04 15:06)  +OmSR*fA0  

uj@<_|7  
为什么第一层镀折射率会影响精准度?

第一层低折射率，常常为二氧化硅，因为其折射率跟监控片接近，光量变化不大，光控不容易判断准确。 l_%~X9"  
第一层用二氧化硅还是很普遍的，也有优点。 ["M>  

dcfcwdx:为什么第一层镀折射率会影响精准度?[表情] (2018-09-02 12:00)  ,~xU>L^  

>` QX xTn  
膜林的专家已经讲的很清楚了。 %}XMhWn{  
因为光控片的折射率和SIO2接近，直接在光控片上镀SIO2光量变化很小， #ya|{K  
放大后的光控波形上能看到有很多毛刺，这会影响光控电脑判断PEAK和截止点的精确度。 x 5Dt5Yp"o  
先镀高折再镀低折则能避免这种情况。 5R`6zhf  
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我司是用光馳 14 'x-w^~k  
dG>Wu o  
一個監控點=控制兩層(高、低折射率) C$G88hesn  
-!G#")<  
高折射 start set 20 ；低折射 start set 80 `OReSg 2  
6XL9 qb~X  
選擇監控波長，我會選過一轉折點後的30%左右。 )|R0_9CLV  
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另外注意的是 還要配合一開始校正光源的頻譜圖，避開一些不好的監控點

看评论有很大帮助，不然一头雾水