[讨论]光控镀膜时，光控片及监控波长的使用方法 [复制链接]

我们一般是两层（我是新柯隆的） o\><e1P   U8icP+Y  
先镀高折射率，再镀低折射率。 wKpb%3   <jHo2U8/"s  
另外，监控波长的选择也很有讲究， - q(a~Ge   9ZXEy }q57  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。 ShlTMTgS   V~_aM@q1  
T.')XKP)1N   ?s5hckhh  
如果第一层镀低折射率，会影响准确度。

各位大神 sQ>L3F;A`  
宽波段时（近红外）监控波长如何设定

长江:我们一般是两层,光驰机器，先高折射 率，后低折射率 (2016-09-10 20:24)  4itadQS  

9pJk.Np0   
同是光驰机，也是监控两层

我们一般控制一个光控点控制两层，高折射率一层，低折射率一层 48 n5Y~YS  

回头比例一般控制在5~95%

ouyuu:我们一般是两层（我是新柯隆的） Cak-J~=  
先镀高折射率，再镀低折射率。 'eDV-cB  
另外，监控波长的选择也很有讲究， gWLhO|y  
最好是过波峰后下行20%以上。这样控制最准确。
....... (2014-04-04 15:06)  ToE^%J4  

Z.E@aml\  
为什么第一层镀折射率会影响精准度?

第一层低折射率，常常为二氧化硅，因为其折射率跟监控片接近，光量变化不大，光控不容易判断准确。 8h'*[-]70u  
第一层用二氧化硅还是很普遍的，也有优点。 ,cCBAOueO  

dcfcwdx:为什么第一层镀折射率会影响精准度?[表情] (2018-09-02 12:00)  aK5O0`  

b/6!>qMMk%  
膜林的专家已经讲的很清楚了。 Ck>{7Gw  
因为光控片的折射率和SIO2接近，直接在光控片上镀SIO2光量变化很小， v/[*Pze,C  
放大后的光控波形上能看到有很多毛刺，这会影响光控电脑判断PEAK和截止点的精确度。 cllnYvr3  
先镀高折再镀低折则能避免这种情况。 Y0xn}:%K  
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我司是用光馳 o|Kd\<rY  
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一個監控點=控制兩層(高、低折射率) PaZd^0'!Z  
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高折射 start set 20 ；低折射 start set 80 qx";G  
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選擇監控波長，我會選過一轉折點後的30%左右。 >gf,8flgj  
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另外注意的是 還要配合一開始校正光源的頻譜圖，避開一些不好的監控點

看评论有很大帮助，不然一头雾水