[求助]晶体端面损伤 [复制链接]

各路神仙： kJi&9  
76Vyhf&7  
我遇到一难题，在高温（60°）的情况下动态激光（主动调Q）晶体端面都出现损伤，而且出现时间很快（打光17S,歇10s,循环8次后；间隔1小时测一次，4小时后就出现了端面损伤的问题），能量80mj,脉宽10ns,波长1064nm；一开始说是污染问题，我们就做静态的试验，不管怎么做，就是不出现问题,

烘烤和清洗都做了，而且还不止一次，动态下还是有，郁闷呀

1 提高晶体加工面的光洁度 )Z8"uRTb0  
2 提高镀膜的透过率以及膜层的抗激光损伤能力

多谢帮主指点，万分感谢！

今天又补做了一实验，在高温情况下打光17S,歇10s,循环8次后；间隔1小时测一次，但这次我将水箱的温度控制在40°左右，之前有人说是热效应导致晶体端面损伤

结果还是出现了端面污染（打了8组后开腔检测），用酒精+蚕丝棉可擦拭掉，不擦拭就变成端面损伤了，

还有就是请教下大家，我们另一项目用"被动Q",用的是键合晶体，密封和清洗都没做过，但它从来没有出现过晶体端面污染或损伤 C7b 5%a!  

这个出现晶体污染的项目是用“主动调Q”，晶体是Nd:YAG ,请问2楼，按您的建议，端面光洁度，透过率及抗损伤阈值多少合适呢？

看来只能高高挂起了

好吧 帮你顶 希望高手给解答下 &Q'\
WA'  
你最好是能详细解释下你的问题 因为我们不懂激光 然后你拿来做对比的两块晶体是一家公司做的吗？找个没镀膜的和镀了膜的对比下 可能问题就在这 YH<$ +U