近阶段研制精密研磨机,拟用于塑胶镜片模仁的抛光。研制的过程中,琢磨过抛光的主要工艺因素,记叙如下: JDO5eEwj
㈠ 抛光速度 *h ~Y=#`8*
光学冷加工行业内有一观念:高速抛光高效,表面品质一般;低速抛光低效,但可获得高品质表面。于是,从机床到工艺便有了“高抛”“低抛”的区分。 .BLF7>
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“睽而知其类,异而知其通。”能沟通高抛低抛二种工艺的是什么因素?当然是速度。当其他工艺因素适当配合时,高抛高效低抛低效无疑是对的,问题是:高抛则表面品质一般,低抛则能加工出高品质的表面,这一条能成为铁律吗? 9A]XuPAlh
诚然,一直以来,要加工精准面形且表面疵病等级高的光学元件总是采用低抛工艺,当抛光高精度平面用分离器时,摆速极慢,主轴转速往往也只有一二十转甚至更低。 qK
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实际上,在光学冷加工以外的研磨领域总能看到这样的情形:高转速能加工出光滑表面。如金相抛光,转速约1000转;又如磨头抛光,转速几千转甚至上万转,按光学冷加工的区分标准,都属高抛。显然,反倒是高抛更容易加工出光滑表面。光学冷加工行业所以没有象机械行业那样追求高转速,一方面受到面形和表面疵病质量指标的约束,当机床性能不配合时,如面形有跳动,机床有振动等等,转速就受到限制;另一方面,光学元件的验收标准,只要感观上达到镜面就行,绝大多数情况下不会去检测镜面的微观粗糙度。所以,高转速反而成了“吃力不讨好”的事情(当追求效率时除外)。对此,我们不妨作进一步的追问:既便在不追求加工效率的前提下,高转速到底有没有意义?回答当然是肯定的:只有高转速才有可能获得超光滑表面。光学冷加工的现状不检测表面粗糙度是一回事,不同的研磨速度一定会影响被加工件的表面粗糙度又是另一回事。至于两者之间的对应关系,有条件的业内人士可以去做个测试,如果有数据能证明研磨速度与表面粗糙度Ra之间有可靠的负相关关系,那么,提高研磨速度便可成为光学冷加工努力的方向,沿着这个方向,高速抛光不仅能实现高效率,同时还可能获得超光滑表面,进而可以提升光学仪器的成像质量。 ,l[h9J
接下来的问题是:要加工精准面形且表面疵病等级高的光学元件,采用高转速是否可行?要回答这个问题,不妨先琢磨一下:一直以来,为什么都选择低抛工艺?我认为主要有这么几点: &&