切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1904阅读
    • 7回复

    [求助]求助介质高反膜资料 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线ken_jinyan1
    技术员
     
    发帖
    232
    光币
    48
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2013-04-15
    我手里有个产品要求  770-790nm  R>95%,客户要求是金属高反膜。 4 neZw'm  
    不过我的机器只能镀介质膜， 哪位大侠，能告诉我镀多少层介质膜 ESCN/ocV  
    可以达到这个要求，谢谢！ }|Qh+{H*.  
    我自己镀了次（HL）^3H,相同层数值一样，但是和TFC的设计曲线差了很多。
     
    回复
    举报
    分享到
    离线ysc212
    助理工程师
    发帖
    181
    光币
    737
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 2013-04-15
    大概十几层吧
    回复
    举报
    离线jiangguang
    助理工程师
    发帖
    546
    光币
    176
    光券
    0
    只看该作者 2楼 发表于: 2013-04-19
    770-790？ &u:U"j  
      要镀金属的话AG吧 AL达不到 镀AG要冷镀 SIO2保护 AL2O3打底 镀的时候真空度高点 熔料要好点 }@bp v  
    介质膜的话应该也很好弄 使尽镀 多镀个10几层就行了 JY c:@\   
    回复
    举报
    离线ken_jinyan1
    技术员
    发帖
    232
    光币
    48
    光券
    0
    只看该作者 3楼 发表于: 2013-04-23
    多谢 楼上的同志。 <IZr..|O  
    我手里的机器是光驰的GENER1300. 蒸发装置时电子枪，厂家说要镀金属膜得加 F7}yt  
    阻蒸装置。 不过听人说镀金属膜，机器会很脏，我怕影响其它产品，就放弃了。 D!* SA  
    前几天做了几罩介质高反膜，9层，11层，效果都不行，好像最高反射率才60% `m'RvUc  
    我用的膜系（HL)^4H。  请高手指点。 k x:+mF  
    我怀疑是检测装置的问题。我用的是奥林巴斯的反射率测定仪，由于以前没有做过高发膜， PlCw,=K8f  
    只有BK7的基准片。 我感觉要测高发膜，就得用反射率高的镜片做基准片。
    回复
    举报
    离线ysc212
    助理工程师
    发帖
    181
    光币
    737
    光券
    0
    只看该作者 4楼 发表于: 2013-04-25
    高反本来就是测不准的，都是测相对值。不过，我认为：做介质膜你测透过就可以了。
    回复
    举报
    离线ken_jinyan1
    技术员
    发帖
    232
    光币
    48
    光券
    0
    只看该作者 5楼 发表于: 2013-04-25
    哦  收到。 l )r^|9{  
    我这里兄弟单位，有一台日立  UV-4100， 有机会去试试。
    回复
    举报
    离线yzhuang
    论坛版主
    发帖
    339
    光币
    3191
    光券
    0
    只看该作者 6楼 发表于: 2013-05-07
    9层够了，如果工艺正常，直接忽略微量的吸收及散射，测透过率就好了。
    回复
    举报
    离线louyc
    实习生
    发帖
    68
    光币
    51
    光券
    0
    只看该作者 7楼 发表于: 2013-05-21
    用日立 UV-4100直接测就可以了，透过率低是吸收太大了吧
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表