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    [分享]光刻机照明系统设计 [复制链接]

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    离线hhxxgg00
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2013-04-02
    随着微电子产业的迅猛发展,我国迫切需要研制极大规模集成电路的加工设备-光刻机。曝光波长为 193nm 的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至 32nm 节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备。照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向,对照明系统关键单元进行了光学设计仿真研究。 <DR! AR)  
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    长光机博士论文 L*,h=#x(  
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    这个时代,每个人都在大声说话,每个人都在争分夺秒。我们用最快的速度站上高度。但是也在瞬间失去态度。当喇叭声遮盖了引擎声,我们早已忘记,谦谦之道才是君子之道。你问我这个时代需要什么,在别人喧嚣的时候安静,在众人安静的时候发声。不喧哗,自有声。
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    离线街灯以北
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    只看该作者 183楼 发表于: 03-06
    顶一下
    离线ioash
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    只看该作者 182楼 发表于: 03-03
    好资料,学习一下。
    在线ning_1
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    只看该作者 181楼 发表于: 03-03
    刚好在做均匀照明,学习学习 %k['<BYG<  
    在线zzzzzzc
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    只看该作者 180楼 发表于: 02-27
    长光所,顶一下
    离线旺旺雪饼
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    只看该作者 179楼 发表于: 01-18
    看一看
    离线hit_xdx
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    只看该作者 178楼 发表于: 01-15
    看看,谢谢楼主
    离线raja
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    只看该作者 177楼 发表于: 01-08
    了解学习一下
    离线huodayun
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    只看该作者 176楼 发表于: 2024-10-24
    马上从事该行业,学习一下
    离线michaelcuic
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    只看该作者 175楼 发表于: 2024-10-21
    看一下