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    [分享]光刻机照明系统设计 [复制链接]

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    离线hhxxgg00
    论坛版主
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2013-04-02
    随着微电子产业的迅猛发展，我国迫切需要研制极大规模集成电路的加工设备-光刻机。曝光波长为 193nm 的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至 32nm 节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备。照明系统是光刻机的重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向，对照明系统关键单元进行了光学设计与仿真研究。 D=3NI  
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    CAJ文件 vnKUD|  
    长光机博士论文 iM\W"OUl[  
    附件设置隐藏，需要回复后才能看到
     
    这个时代，每个人都在大声说话，每个人都在争分夺秒。我们用最快的速度站上高度。但是也在瞬间失去态度。当喇叭声遮盖了引擎声，我们早已忘记，谦谦之道才是君子之道。你问我这个时代需要什么，在别人喧嚣的时候安静，在众人安静的时候发声。不喧哗，自有声。
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    离线xingyu4153
    助理工程师
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    只看该作者 1楼 发表于: 2013-04-02
    长光机博士论文
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    离线drymatini
    工程师
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    只看该作者 2楼 发表于: 2013-04-02
    好资料！
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    离线moth
    助理工程师
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    只看该作者 3楼 发表于: 2013-04-02
    看看看················
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    离线姜守望
    实习生
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    只看该作者 4楼 发表于: 2013-04-02
    顶一下，……
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    离线yu-xuegang
    论坛版主
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    只看该作者 5楼 发表于: 2013-04-02
    顶一下，……
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    离线tmdapple123
    助理工程师
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    只看该作者 6楼 发表于: 2013-04-02
    光几所！哎
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    在线maiwudi
    高级工程师
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    只看该作者 7楼 发表于: 2013-04-02
    看看啦
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    离线ciomp1312
    实习生
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    只看该作者 8楼 发表于: 2013-04-04
    长光机博士论文
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    离线光学行当
    技术员
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    只看该作者 9楼 发表于: 2013-04-04
    看一看
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