ZEMAX(成都)光学设计软件高级培训课程5.28-30

发布:wjjandlh 2012-05-15 11:12 阅读:1939
开课时间:2012年5月28-30日 9i?Q=Vuc~<  
开课地点:成都市区  {ch+G~oS  
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● 主办单位 %n!7'XF'[  
南京理工大学      电子工程与光电技术学院 EQvZ(-_;4  
光研科学有限公司 ZEMAX 软件亚太地区独家总代理 http://www.wavelab-sci.com.cn kWKAtv5@w  
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● 课程形式 s6YnNJ,SK  
讲师讲授与学员互动式教学,课程均采用小班授课模式,下机讨论并指导上机练习,教材与PPT同步教学,通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。 )/Mk\``j  
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● 课程对象 -Z<V? SFOK  
光电企业、光学技术研究所、各大高校内从事应用光学和光机设计领域的研究和技术开发人员 3m]8>1e1"  
C}D\^(nLu.  
● 课程特色及内容 AnD#k ]  
☆高级课程回顾并延伸了标准课程的设计思想,进一步加大了设计实例的深入研究,涵盖了更加复杂成像的设计和分析,包括如何根据需求设定不同的求解类型,如何选用局部和全局优化,利用Image Simulation功能进行实际像分析,同时介绍不同环境下的热分析,如何进行消热差分析。详细讲解了ZEMAX中的分析诊断工具,几种优化方法的技巧,各种求解方式的使用,玻璃替代优化等。 )bkJ[ '9  
在衍射光学理论方面,课程向纵深发展,细致讨论了与衍射相关的物理光学设计(POP光束传播),高斯激光系统设计,小孔滤波设计,衍射二元面设计,双折射系统设计,衍射光学元件、单模与多模光纤耦合系统设计等。 {I9<W'k{  
其它设计实例包括:扫描系统F-Theta镜头设计,应用于传真机上的渐变折射率透镜设计,与环境结构相关的热分析,用户自定义面形设计,用户自定义膜层(分光,滤光等),完整序列与非序列系统结合设计。 .1@8rVp7  
公差方面,全面系统地描述各种公差来源、公差分析流程及技巧、分布特征,公差操作数设置,补偿器设置,公差分析方法(敏感度或反敏感度),简单光学系统及复杂双通系统公差分析方法以及梯度折射率面应用以及如何进行自定义面的设定等。 =*\(Y (0  
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------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------ #FwTV@  
● 费用及优惠 SU$%nK)  
3500元/人     0%b !ARix  
☆ 同一单位有三人以上报名客户    ☆ 光研软件购买客户或参加过光学课程的客户 d+iV19#i  
        培训费用均享受8折优惠 7&>==|gt  
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● 培训证书 G1?m}{D)  
培训结束后,将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证书。 -n#fj;.2_  
● 其他事项 KM&bu='L^  
每位学员上课期间配最新版的ZEMAX原装正版软件使用,也可自带软件,统一安排培训 hVLV Mqd  
课程全部采用最新版本ZEMAX12 IE版讲解,您可以领略到光研独有的课程特色 G>?'b  
统一发放由美国原厂提供的ZEMAX培训教材,学员自带电脑,食宿需要自理(可提供中餐) G{!adBna  
● 课程报名 f$I$A(0P  
参加高级班要求具有软件操作的基本的水平,否则学习会有难度。课程中简单的菜单功能将不再细致讲解,直接从软件的具体操作和实例讲解入手,使您能学习到更全面复杂的系统设计及软件功能应用。 kWm[Lt  
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ZEMAX光学设计高级培训班 课表  5月28-30日
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日期
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内容
第一天
第二天
第三天
9:00-10:30
第一节
界面描述
功能回顾
评价函数规则
优化技巧
实例:系统热分析
衍射光学元件
实例:单模光纤耦合
实例:多模光纤耦合
10:30-10:45
Coffee break
Coffee break
Coffee break
10:45-12:00
第二节
像模拟功能的使用与演示
相干光及成像
激光光束传播
高斯光束
高斯光束实例
测试板匹配
(套样板)
公差操作数
公差流程
12:00-14:00
Lunch break
Lunch break
Lunch break
14:00-15:30
第三节
实例:F-Theta镜头设计
实例:梯度折射率镜头
物理光学传播
POP实例:空间滤波
品质分析
实例: Cooke镜头公差
实例:双通道公差
15:30-15:45
Coffee break
Coffee break
Coffee break
15:45-17:00
第四节
用户自定义面设计及实例
偏振光学
膜层设定及膜层优化
双折射晶体
综合问题解答
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● 报名咨询及热线 )ipTm{  
联系人:吴小姐    电话:025-57929358-808   传真:025-57929359 I;rh(FMV  
E-mail:nancy@wavelab-sci.com.cn  sales@wavelab-sci.com.cn CWx_9b zk  
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最新评论

wjjandlh 2012-05-17 11:14
欢迎您报名参加成都ZEMAX培训班
wjjandlh 2012-05-21 11:11
ZEMAX高级课程,回顾并延伸了标准课程的设计思想,进一步加大了设计实例的深入研究,涵盖了更加复杂成像的设计和分析,欢迎报名咨询!
wjjandlh 2012-05-23 11:08
报名咨询电话: DfX}^'#m+  
联系人:吴小姐    电话:025-57929358-808   传真:025-57929359   fNNik7  
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