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    [求助]镀膜时工件转动的转速不够会怎么样 [复制链接]

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    离线lincc
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2011-12-21
    镀单层MGF2的时候，工件的转动电压调太小了，会导致膜厚不均匀吗？还是会更严重？求高手指点 i |cSO2O+  
     
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    离线12511895
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    只看该作者 1楼 发表于: 2011-12-22
    那会有的，不过要看你的转速多少，越慢就均匀越不好，
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    离线lincc
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    只看该作者 2楼 发表于: 2011-12-23
    回 12511895 的帖子
    12511895:那会有的，不过要看你的转速多少，越慢就均匀越不好， (2011-12-22 21:37)  TGlIt<&  
    0hp*(, L  
    嗯，试了下，镀单层MGF2还好
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    离线kouyang3232
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    只看该作者 3楼 发表于: 2012-01-05
    单层氟化镁我没开公转都没问题。。。（忘了开），膜层少不会影响太大，但大多数情况下应该是影响其均匀性。太慢也可能有喷点
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    离线12511895
    助理工程师
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    只看该作者 4楼 发表于: 2012-01-05
    回 kouyang3232 的帖子
    kouyang3232:单层氟化镁我没开公转都没问题。。。（忘了开），膜层少不会影响太大，但大多数情况下应该是影响其均匀性。太慢也可能有喷点 (2012-01-05 19:55)  X-[_g!pV  
    0kEz i  
    那能喷点啊？？？？
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