常见的芯片如下: R_>.O?U4
材料 波长 材料 波长 G/#m.=t
InGaN 475-485nm InGaN 525nm q8n@fi6
InGaN 465-475nm InGaN 505nm bZ:xH48MY
InGaN 455-465nm InGaN 515nm %3AE2"
InGaAlP 620-640nm GaAlAs/GaAs 660nm (nXnP{yb
InGaAlP 610-620nm GaAlAs/GaAlAs 660nm ^Wn+G8n
InGaAlP 600-610nm GaP 700nm !aKu9SR^e
InGaAlP 592-600nm GaP 570-575nm mSvSdKKKlI
InGaAlP 580-593nm GaP 565-570nm G!wb|-4<$
InGaAlP 567-577nm GaP 550-565nm &5XEjY>@
InGaAlP 550-565nm PY---GaAlAs 585nm >P:U9
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(h=]Ox
一、 半导体发光二极管工作原理、特性及应用 #Ma:Av/
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??(一)LED发光原理 #9Fk&Lx
??发光二极管是由Ⅲ-Ⅳ族化合物,如GaAs(砷化镓)、GaP(磷化镓)、GaAsP(磷砷化镓)等半导体制成的,其核心是PN结。因此它具有一般P-N结的I-N特性,即正向导通,反向截止、击穿特性。此外,在一定条件下,它还具有发光特性。在正向电压下,电子由N区注入P区,空穴由P区注入N区。进入对方区域的少数载流子(少子)一部分与多数载流子(多子)复合而发光,如图1所示。 ]mz '(t
r=SCbv
byMy-v;
??假设发光是在P区中发生的,那么注入的电子与价带空穴直接复合而发光,或者先被发光中心捕获后,再与空穴复合发光。除了这种发光复合外,还有些电子被非发光中心(这个中心介于导带、介带中间附近)捕获,而后再与空穴复合,每次释放的能量不大,不能形成可见光。发光的复合量相对于非发光复合量的比例越大,光量子效率越高。由于复合是在少子扩散区内发光的,所以光仅在*近PN结面数μm以内产生。 .p> ".q
I
??理论和实践证明,光的峰值波长λ与发光区域的半导体材料禁带宽度Eg有关,即 @vXXf/
????λ≈1240/Eg(mm) <&g