目前国内的功率半导体的现状到底如何,和国外比较还有什么差距。为了更好的解答,半个月来,笔者和相关领导、业内专家、业界人士进行了交流,本博文将就国内的功率半导体的现状到底如何分析如下。 3m&r?xZs
BPj?l
应该说,在中国半导体产业发展过程中,半导体分立器件的作用长期以来都没有引起人们足够的重视,政府的投入也很少,发展速度远远滞后于集成电路。 koT3~FK
5
Y&`Z J
国内分立器件厂商的主要产品以硅基二极管、三极管和晶闸管为主,目前国际功率半导体器件的主流主品功率MOS器件只是近年来才有所涉及,且主要为平面栅结构的VDMOS器件,IGBT还处于研发阶段。宽禁带半导体器件主要是以微波功率器件(SiCMESFET和GaNHEMT)为主,尚未有针对市场应用的宽禁带半导体产品器件的产品研发。 29grb P
_xAru9=n^
从功率半导体的产品分类来说 X_'tgP9
r??_2>Q
1.普通二极管、三极管国内的自给率已经很高,但是在高档的功率二极管,大部分还依赖进口,国内的产品性能还有不小的差距。 O^\:J2I(
S$SCW<LuN
2.晶闸管类器件产业成熟,种类齐全,普通晶闸管、快速晶闸管、超大功率晶闸管、光控晶闸管、双向晶闸管、逆导晶闸管、高频晶闸管都能生产。中国南车集团现在可以生产6英寸、4000A、8500V超大功率晶闸管,居世界领先水平,已经在我国的机车上大量使用,为我国的铁路现代化建设做出了贡献。 AO`@&e]o
hbYstK;]Z
3.在功率管领域,逐步有国内的企业技术水平上升到MOS工艺,MOSFET的产业有一定规模,进入21世纪后,这类器件的产品已批量进入市场,几十安培、200V的器件在民用产品上获得了广泛应用,进口替代已然开始。 D 6'd&U{_
:JSxsA6k
4.IGBT、FRD已经有所突破,FRD初见规模。IGBT从封装起步向芯片设计制造发展,从PT结构向NPT发展,沟槽工艺正在开发中。IGBT产品进入中试阶段, =p@2[Uo
jS]Saqd
5.在电源管理领域,2008年前十名都见不到国内的企业。 8\;, d
9wCgJ$te
从功率半导体产业链来说 k% \;$u=%
o`,}b1lh
1.设计:国内IGBT还处于研制阶段,还没有商品化的IGBT投入市场,我国IGBT芯片的产业化道路比较漫长。目前国内的民营和海归人士设立的公司已经研发出了低端的IGBT产品,如常州宏微、嘉兴斯达。南车集团就不说了。 vKnZ= =B
pF6u3]
2.制造:IGBT对于技术要求较高,国内企业还没有从事IGBT生产。考虑到IP保护以及技术因素的限制,外资IDM厂商也没有在国内进行IGBT晶圆制造和封装的代工。目前华虹NEC和成芯的8寸线、华润上华和深圳方正的6寸线均可提供功率器件的代工服务。 _f2rz+
ds`YVXKH
3.封装:我国只有少数企业从事中小功率IGBT的封装,而且尚未形成规模化生产,在IGBT芯片的产业化以及大功率IGBT封装领域的技术更是一片空白。 vFHeGq70j
}o]}R#|
从功率半导体工艺发展来说 &wU"6E
_886>^b@
1.BCD工艺已从无到有,从低压向高压发展,从硅基向SOI基发展。 .}F
39TS2
$G <r2lPy
2.从封装起步向芯片设计制造发展,从PT结构向NPT发展,沟槽工艺正在开发中。 zW\a)~E
#rW-jW=A
(文章转载于网络,作者未知,若有不妥,请告知!)