多层介质薄膜膜层间界面粗糙度及光散射 R#Nd|f<
e'?d oP
摘要：利用泰勒霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪(Talysurf CCI)分别对基底和采用电子束热蒸发技术沉积的15 层二氧化钛(TiO2)和二氧化硅(SiO2)为膜料的介质高反膜的膜层间的界面粗糙度进行了研究， 并对不同工艺下沉积的薄膜界面粗糙度以及不同基底粗糙度上沉积的薄膜的表面粗糙度进行了比较。实验结果表明：TiO2薄膜对基底或下表面粗糙度有较好的平滑作用，随着TiO2和SiO2膜层的交替镀制，膜层间表面粗糙度呈现出低高交替的现象，随着膜层层数的增加，膜层间界面粗糙度低高变化范围减小；采用离子束辅助沉积工艺时，膜层间界面粗糙度低高变化范围较小。总散射损耗的理论计算表明：中心波长处完全非相关模型下的总散射损耗小于完全相关模型下的总散射损耗。实验结果表明：界面粗糙度的相关度约为0.4。 \`%Y-!H+v
=|JIY
关键词：界面粗糙度； 白光干涉轮廓仪； 均方根粗糙度； 光散射 wyA(}iSq
