[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 _EMq"
\ND  
rK 9  
目前要作一個發光表面 C":i56  
X-,scm  
表面的發光強度由中間最強 :KY920/,  
ernZfd{H  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 jzCSxuZ7O  
T;!7GW4E ?  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 yM}b  
強度是高斯分佈沒有錯 w;@DcX$]  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 T4MB~5,i  
g%z'#E97  
我想要的是 ]r++YIg!j  
)Lt|]|1B{  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 sDNV_
} h  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 IRy!8A=X  
L,G{ t^j  
不知道大家能否給我些建議  ^^" /HCd52  
=fk+"!-i%"  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ :9`'R0
=i^  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 k&Z3v.  
E+XpgR
5  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 ?NazfK  
["'0vQ  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup [/.5{|&GSt  
)ESF)aKMiz  
在 Beam Setup 中 YXD6G
JWo  
m%8idjnG  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian k M/cD`  
並且 _)4YxmK%  
Spatial weighting uniform flux/weighted position P%Fkd3e+  
{?-@`FR-  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 ] i;xeo,  
J{98x zb  
但是 JaC =\\B  
7C7eXJ9q  
光線的方向 O0?.$f9 s  
8"2 Y$*)(  
在 Beam Setup 中 ~b}@*fq  
k0
;ND  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 eQBR*@x  
{fsU(Jj\  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 MMs#Y1dH  
-Fcg}\9  
只能選擇一個光線射出的方向向量 j(j o8  
7%aaqQ1T  
n-q  
所以關於小弟的需求希望 >UTAk  
R(dVE\u  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  w#v8a$tT  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 ZVo%ssVt  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 zo*YPDEm"  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 mmC&xZ5f  
uus}NZ:*l  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ F<8Rr#Z  
1(V>8}zn  

你真农民啊。 ：） N>z<v\
`  
vJ*IUy  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 Z5aU7  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. 5m,{?M`  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 bSmF"H0cP  
$YvT* T$_  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 eto3dJ!R  
如果小弟想要產生 TK.a6HJG  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 2.)@u~^Q  
g+8j$w}  
ra\Moy  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 >E^?<}E~.  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : f7{E(,  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 Htl6Mr*{  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. )5gcLD/zI  
K@U"^ `G2  

^"v~hjM#  
"RuJlp  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid (G<"nnjK  
Grid pattern 设成 random