[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 0T$`;~  
?"}U?m=  
目前要作一個發光表面 NFur+zwv  
b-c6.aKf|  
表面的發光強度由中間最強 oOXJ7|n  
Tn3C0  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 j~;y~Cx?  
DEfhR?v  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 >A6PH*x  
強度是高斯分佈沒有錯 @k:@mzB7R  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 j6 _w2  
F?y C=  
我想要的是 ^:O*Sx.CA  
4d
SAGLpp  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 >Ij#+=  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 * _,yK-et  
h{)`W ]~  
不知道大家能否給我些建議  ^^" [R~@#I P!  
~ :B/`1[m  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ =G rg  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 C2J@]&  
maQOU1  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 ^<'=]?xr  
D&#ph%U,P  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup Gcu?xG{  
d+Jj4OnP  
在 Beam Setup 中 <al/>7z' O  
ZZ{:f+=?$  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian "EC,#$e%ev  
並且 IG~d7rh"  
Spatial weighting uniform flux/weighted position C)`y<O  
WMd5Y`
y  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 FQCz_z  
D[ (A`!)  
但是 ibskce{H  
'IroQ M  
光線的方向 '\.fG\xD  
{kgV3 [%>  
在 Beam Setup 中 F2RU7o'f.  
3]}wZY0  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 $17utJ58  
P mgTTI  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 x*uQBNf=  
z>X<Di&x)  
只能選擇一個光線射出的方向向量 %) 8 UyZG  
7ClN-/4  
PF?tEw_WB  
所以關於小弟的需求希望 zQQ=8#]  
V8.o}
BWY  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  A~Ov(  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 'm,3znX!c  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 ZkZTCb`/l  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 eE/E#W8  
*^q%b/f  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ {\+!@?  
4:p+C-gs  

你真农民啊。 ：） W7QcDR y6  
b+.P4+  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 8f37o/L  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. El
$yM.M"  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 PO,mg?JG(  
:eIu<_,}  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 "r Bb2.  
如果小弟想要產生 z+>FKAF  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 J~3+j6?%  
D.hj9  
8R;)WlLu=  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 T}%8Vlt]  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : 3J3Yt`  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 >bLhCgF:"  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. ehpU`vQz  
&1 BACKu  

f>!H<4 ]  
85}S8\_u  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid K Y=$RO  
Grid pattern 设成 random