[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 o/buU{)y  
PbxuD*LQ.  
目前要作一個發光表面 FQNhn+A  
4 q
}1  
表面的發光強度由中間最強 _?<Y>B, E  
qY\zZ  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 WS9n.opl}  
q)gZo[]~  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 hY+3PNiI@  
強度是高斯分佈沒有錯 H^xrFXg~z  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 BL0WI9  
X@Eq5s  
我想要的是 vM~/|)^0sW  
@3wI(l[  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 fOiLb.BW  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 C&D]!ZvF  
!_E E|#`n  
不知道大家能否給我些建議  ^^" L]B]~Tw  
-cyJjLL*  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ KQi9qj  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 /7@@CG6b  
]=9%fA  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 6ap,XFRMh  
q6j]j~JxB  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup ]qVJ>  
7{<F6F^P  
在 Beam Setup 中 H:[z#f|t  
cR@z^  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian 9D<^)ShY  
並且 ^~BJu#uVyy  
Spatial weighting uniform flux/weighted position M?nnpO  
'2# 0UdG  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 Y%=A>~s*c:  
JAB]kNvI  
但是 5I&^n0h|&  
pQVi&(M  
光線的方向 J8b]*2D  
ni%^w(J3Q  
在 Beam Setup 中 "A/kL@-C  
zZiB`%  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 {'!D2y.7g  
)@K|Co  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 (Nik(Oyj"  
]KuK\(\  
只能選擇一個光線射出的方向向量 -w@fd]g  
k*M{?4  
Ok:@F/ v  
所以關於小弟的需求希望 m   
F`u{'w:Hv  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  Nc"h8p?  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 X&p-Ge1>z  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 O-y"]Wrv  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 j|[s?YJl  
uq 6T|Zm  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ e.HN%LrhS  
4h~Oj y16&  

你真农民啊。 ：） #qn)Nq(  
qq?>ulu*W  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 ,\qo  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. S"eKiS,z  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 2fLd/x~  
wG|3 iFK  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 @qe>ph[UA  
如果小弟想要產生 siG?Sd_2  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 lGM3?AN  
_cJ{fYwYU  
7<tqT @c  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 ]dK]a:S  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : 6"i{P  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 )J+{oB[>b  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. $}nh[@  
4`6c28K0?  

AzW7tp;t=  
rMHQzQ
0%  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid O<1vSav!K  
Grid pattern 设成 random